文献

J-GLOBAL ID：201502220305756563   整理番号：15A1036851

ケイ素-ダイヤモンド薄膜対におけるフォノン輸送:カットオフミスマッチと拡散ミスマッチモデルによる熱境界抵抗の考慮

PHONON TRANSPORT IN SILICON-DIAMOND THIN FILM PAIRS: CONSIDERATION OF THERMAL BOUNDARY RESISTANCE DUE TO CUTOFF MISMATCH AND DIFFUSIVE MISMATCH MODELS

著者 (3件)： ALI Haider (King Fahd Univ. Petroleum & Minerals, Dhahran, SAU) ,  YILBAS Bekir Sami (King Fahd Univ. Petroleum & Minerals, Dhahran, SAU) ,  YILBAS Bekir Sami (Renewable Energy Center of Excellence, Dhahran, SAU)
資料名： Numerical Heat Transfer Part A. Applications  (Numerical Heat Transfer Part A. Applications)
巻： 68  号： 7-12  ページ： 1307-1330  発行年： 2015年12月 
JST資料番号： D0713C  ISSN： 1040-7782  CODEN： NHAAES  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *ダイヤモンド ,  *薄膜 ,  対合 ,  *輸送現象 ,  *フォノン ,  境界 ,  *熱抵抗 ,  不整合 ,  *熱伝導 ,  *放射熱伝達 ,  過渡解析
準シソーラス用語： フォノン輸送 ,  ミスマッチ ,  対形成

分類 (3件)： 熱伝導  (PA02020Z) ,  対流・放射熱伝達  (PA02030K) ,  光子による反応・散乱  (BG04020R)

タイトルに関連する用語 (7件)： ケイ素 ,  ダイヤモンド薄膜 ,  フォノン輸送 ,  拡散 ,  ミスマッチ ,  モデル ,  境界