文献

J-GLOBAL ID：201502220409119751   整理番号：15A1219990

電磁析出における微細渦と特異的吸着による表面キラリティの合目的調整

Tailoring of Surface Chirality by Micro-Vortices and Specific Adsorption in Magnetoelectrodeposition

著者 (3件)： MOGI Iwao (Inst. for Materials Res., Tohoku Univ.) ,  AOGAKI Ryoichi (Polytechnic Univ.) ,  WATANABE Kazuo (Inst. for Materials Res., Tohoku Univ.)
資料名： Bulletin of the Chemical Society of Japan  (Bulletin of the Chemical Society of Japan)
巻： 88  号： 10  ページ： 1479-1485 (J-STAGE)  発行年： 2015年 
JST資料番号： G0450A  ISSN： 0009-2673  CODEN： BCSJA8  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 通常,固体表面は有機分子の反応場として作用する。もし表面がキラリティを示すならば,それはエナンチオ選択性触媒としての重要な役割を果たしうる。磁場中の電着(電磁析出;MED)はエナンチオ選択性金属表面を生成する能力を有するが,既往MED実験ではキラル生成条件の探求は充分なされていない。本研究で著者らは定電流MEDによって調整した銅膜表面のキラル挙動を示した。キラル信号は析出電流および磁場の極性両者に依存した。さらに,膜表面への塩化物イオンの特異的吸着がMED時はキラル生成に劇的な影響をもたらした。ある塩化物濃度では,磁場の極性に対してキラル対称性の破れを観察した。これらの結果は,電磁流体力学微小渦と律速段階がキラル表面生成の原因であることを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *光学異性 ,  *表面性状 ,  吸着 ,  渦 ,  *電着 ,  *磁場 ,  触媒反応 ,  銅 ,  膜 ,  銅触媒 ,  塩化物 ,  エナンチオ選択性触媒
準シソーラス用語： *電磁析出 ,  *表面キラリティ

分類 (3件)： 金属の表面構造  (BK15020P) ,  その他の触媒  (CB06123Z) ,  金属薄膜  (BK14030T)

引用文献 (35件)：

• 1) M. Avalos, R. Babiano, P. Cintas, J. L. Jiménes, J. C. Palacios, Chem. Rev. 1998, 98, 2391.
• 2) J. J. Flores, W. A. Bonner, G. A. Massey, J. Am. Chem. Soc. 1977, 99, 3622.
• 3) W. L. Noorduin, A. A. C. Bode, M. van der Meijden, H. Meekes, A. F. van Etteger, W. J. P. van Enckevort, P. C. M. Christianen, B. Kaptein, R. M. Kellogg, T. Rasing, E. Vlieg, Nat. Chem. 2009, 1, 729.
• 4) G. L. J. A. Rikken, E. Raupach, Nature 2000, 405, 932.
• 5) D. K. Kondepudi, R. J. Kaufman, N. Singh, Science 1990, 250, 975.

タイトルに関連する用語 (4件)： 析出 ,  渦 ,  特異的吸着 ,  キラリティ