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J-GLOBAL ID：201502220476626072   整理番号：15A0782788

Ni充填と装飾での1段階成長多層カーボンナノチューブ

One-step grown multi-walled carbon nanotubes with Ni filling and decoration

著者 (2件)： BARO Mahananda (Inst. of Advanced Study in Sci. and Technol., Assam, IND) ,  PAL Arup R (Inst. of Advanced Study in Sci. and Technol., Assam, IND)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 48  号： 22  ページ： 225303,1-6  発行年： 2015年06月10日 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： この論文では,筆者らはプラズマ増強化学蒸着(PECVD)とマグネトロンスパッタリングが組合わされたプロセスで実行されるPECVD-ハイブリッドスパッタリング(SP)プロセスによってNi充填CNTの合成のための代替経路を示した。FESEM,HRTEM,そしてXRD解析によって,筆者らはカーボンナノチューブ(CNT)でのNi充填の証拠を示すことができる。このプロセスはCNTの壁でNiナノ粒子の装飾を有するNi充填CNTの合成を容易にする。また,CNT成長はPECVD-のみのプロセスで実行された。ここで,充填はより大きな直径のCNTに対して得られる。PECVD-SPプロセスによって成長したCNTの磁気的性質は135Oeの増強された保磁力を有する強磁性挙動を示す。その結果,PECVD-SPプロセスは,壁にナノ粒子で装飾するだけでなく,Niナノワイヤで充填された整列MWCNTの配列を合成するための最も有効な方法の一つになる可能性がある。そして,それは優れた品質の磁気CNTを生じる。

シソーラス用語： *多層カーボンナノチューブ ,  ナノワイヤ ,  ニッケル ,  *磁気的性質 ,  *プラズマCVD ,  スパッタリング ,  強磁性
準シソーラス用語： プラズマ増強化学蒸着

分類 (2件)： その他の無機化合物の磁性  (BM06060P) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

タイトルに関連する用語 (5件)： Ni ,  装飾 ,  段階 ,  成長 ,  多層カーボンナノチューブ