文献

J-GLOBAL ID：201502220898470377   整理番号：15A1094748

Co/Ni多層膜におけるスカーミオン安定性の検討

著者 (3件)： 穗積繁 (電通大) ,  山田啓介 (電通大) ,  仲谷栄伸 (電通大)
資料名： 日本磁気学会学術講演概要集  (Abstracts. Annual Conference on Magnetics in Japan)
巻： 39th  ページ： 123  発行年： 2015年08月25日 
JST資料番号： Y0056A  ISSN： 1882-2959  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： コバルト ,  ニッケル ,  多層膜 ,  *スキルミオン ,  *安定性 ,  スピン-軌道相互作用 ,  交換相互作用 ,  電磁気学 ,  シミュレーション ,  障壁 ,  熱安定性 ,  *磁性薄膜
準シソーラス用語： Dzyaloshinskii-Moriya相互作用 ,  スカーミオン ,  マイクロマグネティクス ,  *強磁性薄膜 ,  *構造安定性

分類 (4件)： 磁性材料  (NA04040H) ,  金属の磁区及び磁化過程  (BM06112D) ,  金属の磁気異方性・磁気機械効果  (BM06102S) ,  計算機シミュレーション  (JE11000H)

タイトルに関連する用語 (5件)： CO ,  Ni ,  多層膜 ,  スカーミオン ,  安定性