水/プロピレングリコールモノメチルエーテル混合溶媒中におけるカプロラクタム硫酸水素塩([CPL]HSO<sub>4</sub>)イオン液体触媒を用いた糖の脱水を介した5-ヒドロキシメチルフルフラールの効率的な製造

HUANG Pingzhen; HUANG Pingzhen; GU Aijuan; WANG Jinxing

文献

J-GLOBAL ID：201502221341202821 整理番号：15A0796537

水/プロピレングリコールモノメチルエーテル混合溶媒中におけるカプロラクタム硫酸水素塩([CPL]HSO₄)イオン液体触媒を用いた糖の脱水を介した5-ヒドロキシメチルフルフラールの効率的な製造

Efficient production of 5-hydroxymethylfurfural through the dehydration of sugars with caprolactam hydrogen sulfate ([CPL]HSO₄) ionic liquid catalyst in a water/proprylene glycol monomethyl ether mixed solvent

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資料名：
巻： 41 号： 8 ページ： 5311-5321 発行年： 2015年08月
JST資料番号： A0851B ISSN： 0922-6168 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

新規に開発した硫酸水素カプロラクタム([CPL]HSO₄)イオン液体触媒による,新規の水/プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒中における助触媒として金属ハロゲン化物を用いた糖の脱水を介した5-ヒドロキシメチルフルフラール(HMF)の効率的な製造を達成した。最適条件下において,[CPL]HSO₄存在下における105°C,90分のフルクトースの脱水によるHMFの収率は80.5%に達した。フルクトース脱水の触媒反応メカニズムを提案し,この魅力的な結果の背後にある本質を明らかにした。5回の再使用後の[CPL]HSO₄触媒のフルクトース脱水におけるHMFの収率は約70%であった。[CPL]HSO₄/金属ハロゲン化物触媒系を用いてスクロースの脱水を行い,最適化収率は64~68%と高かった。Copyright 2014 Springer Science+Business Media Dordrecht Translated from English into Japanese by JST.

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フラン , 付加反応,脱離反応

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水/プロピレングリコールモノメチルエーテル混合溶媒中におけるカプロラクタム硫酸水素塩([CPL]HSO4)イオン液体触媒を用いた糖の脱水を介した5-ヒドロキシメチルフルフラールの効率的な製造

水/プロピレングリコールモノメチルエーテル混合溶媒中におけるカプロラクタム硫酸水素塩([CPL]HSO₄)イオン液体触媒を用いた糖の脱水を介した5-ヒドロキシメチルフルフラールの効率的な製造