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J-GLOBAL ID：201502221378224450   整理番号：15A1034937

垂直磁化コバルトフェライト薄膜の形成

Co-ferrite thin films with perpendicular magnetic anisotropy

著者 (2件)： LIU Xiaoxi (Shinshu Univ.) ,  HARA Yusuke (Shinshu Univ.)
資料名： 電気学会マグネティックス研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： MAG-15  号： 71-92  ページ： 27-31  発行年： 2015年08月04日 
JST資料番号： Z0924A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スピネル構造を有するコバルトフェライト薄膜は,スピントロニクスや多機能デバイスにとって魅力的である。これまでは,コバルトフェライト薄膜に垂直磁気異方性を導入するためには,単結晶基板が必要であった。本論では,垂直磁気異方性を持つ熱酸化されたシリコンウェファ上にコバルトフェライト薄膜を堆積させるためのユニークなプロセスを開発した。我々は,(001)方位を有するコバルトフェライト薄膜の調製に成功した。これらの薄膜は,12.8kOeの垂直保磁力を示した。X線回折の結果,蒸着過程よりむしろ焼なまし過程において編入される圧縮歪は,(001)方位を有する薄膜において,1.3%となることが判明した。この大きな保磁力と垂直磁気異方性は,磁気弾性効果により,定量的に説明することができる。このシリコンに匹敵する製作過程は,コバルトフェライト薄膜の応用面を拡大する上で有用である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 保磁力 ,  *垂直磁化 ,  *コバルト化合物 ,  *フェライト ,  *磁性薄膜 ,  *金属薄膜 ,  *薄膜成長 ,  スピネル型結晶 ,  *垂直磁気異方性 ,  熱酸化 ,  ケイ素 ,  ウエハ【IC】 ,  X線回折 ,  焼なまし ,  電磁弾性
準シソーラス用語： *コバルトフェライト ,  圧縮歪 ,  磁気弾性

分類 (1件)： 磁性材料  (NA04040H)

引用文献 (6件)：

• Jean-Baptiste Moussy, “From epitaxial growth of ferrite films to spin-polarized tunneling,“ J. Phys.D: Appl. Phys., 46, 143001(2013).
• H. Zheng et.al, “Multiferroic BaTiO3-CoFe2O4 nanostructures“, Science, 303, 661-663, (2004).
• T. Niizeki, et.al “Extraordinarily large perpendicular magnetic anisotropy in epitaxially strained cobalt-ferrite CoxFe3-xO4(001) (x=0.75, 1.0) thin films,“ Appl. Phys. Lett., 103, 162407 (2013).
• A. Morisako et.al, “The effect of underlayer for Ba-ferrite sputtered films on c-axis orientation,“ J. Appl. Phys., 81(8), 4374-4376 (1997).
• V. J. Folen, in Landolt-Bornstein, Vol. 3, Part 4b, Magnetic and Other Properties of Oxides and Related Compounds, K.-H. Hellwege, A.M. Hellwege, Eds. Springer, Berlin, Heidelberg, New York, 1970.

タイトルに関連する用語 (3件)： 垂直磁化 ,  コバルトフェライト ,  薄膜