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J-GLOBAL ID：201502224531766916   整理番号：15A0714382

大気圧プラズマCVD法によるシリカ膜の作製

著者 (5件)： 山本裕太 (広島大 大学院) ,  長澤寛規 (広島大 大学院) ,  金指正言 (広島大 大学院) ,  吉岡朋久 (広島大 大学院) ,  都留稔了 (広島大 大学院)
資料名： 日本膜学会年会講演要旨集
巻： 37th  ページ： 83  発行年： 2015年04月21日 
JST資料番号： L1215A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  *無機分離膜 ,  フッ化硫黄 ,  ラジカル ,  酸素 ,  酸化 ,  温度依存性 ,  熱処理 ,  ガス分離 ,  *シリカ膜 ,  酸素ラジカル ,  *膜
準シソーラス用語： *大気圧 ,  酸化反応 ,  気体分離

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： 大気圧プラズマ ,  CVD法 ,  シリカ膜 ,  作製