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J-GLOBAL ID：201502227004028531   整理番号：15A0210912

収束電子ビームを用いた高強度レーザーの直接プロファイル計測法の開発

著者 (6件)： 佐藤令 (Waseda Univ.) ,  野々村洸 (Waseda Univ.) ,  五十嵐大祐 (Waseda Univ.) ,  坂上和之 (Waseda Univ.) ,  遠藤彰 (Waseda Univ.) ,  鷲尾方一 (Waseda Univ.)
資料名： 日本加速器学会年会(Web)  (日本加速器学会年会プロシーディングス(Web))
巻： 11th  ページ： SAP115 (WEB ONLY)  発行年： 2014年 
JST資料番号： U0092A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 電子ビーム ,  *ビーム集束 ,  パルスレーザ ,  ケイ酸塩 ,  ルテチウム化合物 ,  イットリウム化合物 ,  *固体シンチレータ ,  *光電子増倍管 ,  Compton散乱 ,  金属線 ,  *監視装置 ,  LYSO【化合物】 ,  ビームサイズ ,  *ビームプロファイルモニタ ,  *電子ビーム集束
準シソーラス用語： RF電子銃 ,  *レーザCompton散乱 ,  高強度レーザ

分類 (1件)： 加速器一般及び理論  (BE02010M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 収束電子ビーム ,  高強度 ,  レーザー ,  プロファイル ,  計測法 ,  開発