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J-GLOBAL ID：201502229184443364   整理番号：15A0706271

レーザ化学蒸着による正方晶ZrO₂分散SiO₂ナノ複合材膜の高速度蒸着

High-speed deposition of tetragonal-ZrO₂-dispersed SiO₂ nanocomposite films by laser chemical vapor deposition

著者 (3件)： XU Ling Fang (Hubei Collaborative Innovation Center for Advanced Organic Chemical Materials, Fac. of Physics and Electronic ...) ,  ITO Akihiko (Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN) ,  GOTO Takashi (Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 154  ページ： 85-89  発行年： 2015年09月01日 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 正方晶ZrO₂(t-ZrO₂)分散非晶質膜を40~300μmh^-1の速い蒸着速度でレーザ化学蒸着により作製した。SiO₂を用いずに869~1246Kの蒸着温度で作製した膜は,単斜晶ZrO₂を含んでいた。ZrO₂は,867~1170Kの蒸着温度で非晶質SiO₂母材でその正方晶相で安定化した。t-ZrO₂粒子寸法は蒸着温度の増大に伴い,21から11nmに減少した。非晶質SiO₂ナノ粒子は,t-ZrO₂ナノ粒子が高い蒸着温度で均一に分散しているが,低い蒸着温度で網目構造を形成した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *二酸化ケイ素 ,  *酸化ジルコニウム ,  *正方晶系 ,  *ナノ複合材料 ,  *蒸着膜 ,  *レーザCVD ,  非晶質 ,  堆積速度 ,  *分散【dispersion】 ,  窒化アルミニウム ,  相組成 ,  単斜晶系 ,  加工温度 ,  結晶粒微細化 ,  ネットワーク構造 ,  ジルコニウム錯体 ,  脂肪族ケトン ,  ジケトン ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル
準シソーラス用語： 蒸着温度 ,  蒸着速度 ,  正方晶ジルコニア

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (2件)： アセチルアセトン ,  オルトけい酸テトラエチル

タイトルに関連する用語 (7件)： レーザ化学蒸着 ,  正方晶 ,  ZrO2 ,  SiO2 ,  複合材膜 ,  高速度 ,  蒸着