文献

J-GLOBAL ID：201502229570862606   整理番号：15A0466262

活用が進むナノインプリント技術 ナノレオロジープリンティング 高性能な酸化物デバイスを直接形成する技術

著者 (1件)： 下田達也 (北陸先端科学技術大学院大)
資料名： クリーンテクノロジー  (Clean Technology)
巻： 25  号： 4  ページ： 27-31  発行年： 2015年04月10日 
JST資料番号： L1138A  ISSN： 0917-1819  CODEN： KTEKER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 酸化物材料とナノインプリント法を用いた微細加工法ナノレオロジープリンティング(n-RP)の技術概要とデバイス作成例を紹介した。パターン形成の工程はITO(InSnO)などの酸化物溶液を塗布・乾燥させてゲル膜を形成,モールドを押し当て加圧・昇温により塑性変形(インプリント加工)し焼成による結晶化を行う。酸化物ゲルはコアシェル型の微小なクラスターから構成され,シェル部の有機官能基の分解により塑性流動が起こり,n-RP加工が成立する源となっている。インプリント温度と焼成温度の異なる2種類の酸化物溶液を使い,チャネル長0.5,チャネル幅28μmの二種類の薄膜トランジスタを作成して評価した結果,いずれも優れた寸法精度と電界効果特性を示すことが確認された。

シソーラス用語： *レオロジー ,  ナノ構造 ,  転写印刷 ,  *押付成形 ,  *パターン形成 ,  *微細加工 ,  *酸化インジウムスズ ,  *薄膜トランジスタ ,  寸法精度 ,  塑性変形 ,  焼成
準シソーラス用語： *ナノインプリント ,  ナノプリンティング ,  *ナノレオロジー

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 活用 ,  ナノインプリント ,  酸化物