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J-GLOBAL ID:201502229978050669   整理番号:15A0294418

終端酸化剤として過酸化水素を用いるp-メトキシベンジルエーテル保護基の光酸化還元的除去

Photoredox Removal of p-Methoxybenzyl Ether Protecting Group with Hydrogen Peroxide as Terminal Oxidant
著者 (5件):
資料名:
巻: 357  号: 2-3  ページ: 589-593  発行年: 2015年02月09日 
JST資料番号: W1343A  ISSN: 1615-4150  CODEN: ASCAF7  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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LEDと組み合わせたエオシンYを光酸化還元触媒系とし,終端酸化剤として過酸化水素を用いた,酸性条件下におけるp-メトキシベンジル保護基脱離の温和なプロトコルを報告する。このプロトコルは,多様な官能基類と同様,第一-,第二-及び第三アルコール由来のエーテル類と両立する。本プロトコルは,第一エーテルよりも,第三エーテルに対して,異例の選択性を示す。グラム規模への規模拡大もまた研究し,変わらぬ反応性を見出した。Copyright 2015 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
分類
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芳香族単環エーテル  ,  脂肪族アルコール  ,  ピランの縮合誘導体 
物質索引 (8件):
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