文献

J-GLOBAL ID：201502231185617484   整理番号：15A0202825

スピンキャストポリウレタン薄膜の残留応力

Residual stress in spin-cast polyurethane thin films

著者 (2件)： ZHANG Hong (Dep. of Mechanical and Automation Engineering, The Chinese Univ. of Hong Kong, Shatin N.T., Hong Kong, CHN) ,  ZHANG Li (Dep. of Mechanical and Automation Engineering, The Chinese Univ. of Hong Kong, Shatin N.T., Hong Kong, CHN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 106  号： 3  ページ： 033102-033102-4  発行年： 2015年01月19日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ポリウレタン ,  *残留応力 ,  スピンコーティング ,  膜厚 ,  高分子鎖 ,  溶媒 ,  ガラス固化 ,  依存性 ,  *高分子薄膜
準シソーラス用語： *スピンキャスト法 ,  位置依存性

分類 (2件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (2件)： 薄膜 ,  残留応力