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J-GLOBAL ID：201502231979939990   整理番号：15A0700186

嵩高い置換基を導入したジフェニルジヒドロアクリジン誘導体の合成と酸化生成物の性質

著者 (5件)： 宮本桂佑 (慶応大 理工) ,  安達恒貴 (慶応大 理工) ,  鈴木良太 (慶応大 理工) ,  三浦洋平 (慶応大 理工) ,  吉岡直樹 (慶応大 理工)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 95th  号： 4  ページ： 1511  発行年： 2015年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： スピロ構造を有するジヒドロアクリジン型ニトロキシドバイラジカルでは,2つのアクリジン平面上に広がるSOMOが直交することで分子内強磁性的相互作用を示すことが,分子軌道計算から予想されている。しかしながら固相状態におけるSQUID測定結果からは,反強磁性的相互作用しか観測されてない。本研究では,固相中においてニトロキシド部位の接近を妨げることを期待してアクリジンの3,6位に嵩高いtert-Bu基を置換した誘導体を設計・合成した。本報告では,その酸化生成物の電子状態および構造磁性相関を議論する。(著者抄録)

シソーラス用語： *嵩高性 ,  *基 ,  *窒素複素環化合物 ,  酸化 ,  生成物 ,  スピロ化合物 ,  ラジカル ,  分子内相互作用 ,  電子状態
準シソーラス用語： *置換基 ,  *アクリジン類

分類 (1件)： ピリジンのその他の縮合誘導体  (CF07097Y)

タイトルに関連する用語 (4件)： 置換基 ,  誘導体 ,  酸化生成物 ,  性質