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J-GLOBAL ID:201502232290443030   整理番号:15A0502046

窒素ガス流量を変え反応性スパッタリングで蒸着したδ-(Ti,Mo)N膜の摩耗と酸化挙動

Wear and oxidation behavior of reactive sputtered δ-(Ti,Mo)N films deposited at different nitrogen gas flow rates
著者 (6件):
資料名:
巻: 87  ページ: 32-39  発行年: 2015年07月 
JST資料番号: E0409B  ISSN: 0301-679X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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窒素ガス流量fN2を低いと高いに変えて蒸着したδ-(Ti,Mo)Nの摩耗特性を調べた。fN2が2.0sccmの膜は0.3の膜より接着摩耗抵抗が良かった。その改善は摩耗酸化によるMo酸化物デブリスが形成されるためである。Mo酸化物は,fN2が0.3sccmの膜より2.0sccmの膜に形成されやすいことが分かった。熱力学的考察から,N成分量の増加とともに,δ-(Ti,Mo)N内のTiの活性が低下するので,fN2が2.0sccmの膜内でMo酸化が促進され,摩耗特性が良くなることが示された。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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金属の機械的性質 

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