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J-GLOBAL ID：201502232384912068   整理番号：15A0440785

高および低pHレベルでの電着CoFeCu膜:構造と磁気的性質

Electrodeposited CoFeCu films at high and low pH levels: structural and magnetic properties

著者 (6件)： KOCKAR Hakan (Balikesir Univ., Physics Dep., Sci. and Literature Fac., 10145, Cagis, Balikesir, TUR) ,  OZERGIN Ercument (Balikesir Univ., Physics Dep., Sci. and Literature Fac., 10145, Cagis, Balikesir, TUR) ,  KARAAGAC Oznur (Balikesir Univ., Physics Dep., Sci. and Literature Fac., 10145, Cagis, Balikesir, TUR) ,  ALPER Mursel (Uludag Univ., Physics Dep., Sci. and Literature Fac., 16059, Gorukle, Bursa, TUR) ,  KURU Hilal (Balikesir Univ., Physics Dep., Sci. and Literature Fac., 10145, Cagis, Balikesir, TUR) ,  HACIISMAILOGLU Murside (Uludag Univ., Physics Dep., Sci. and Literature Fac., 16059, Gorukle, Bursa, TUR)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 26  号： 4  ページ： 2090-2094  発行年： 2015年04月 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CoFeCu膜を高および低pHで電着し,その構造,磁気,磁気抵抗特性を調べた。電流-時間過渡測定を,膜の適切なデポジションを観察するために記録した。結晶構造をX線回折で示した。すべての膜は面心立方晶構造を持ち,結晶構造はfcc-Coに支配されている。膜のモルフォロジと元素組成をそれぞれ走査電子顕微鏡とエネルギー分散X線分光で決定した。低pHでデポジットした膜の表面は高pHでデポジットしたものよりも大きく,丸みを帯びた形をしている。電解質のpHが増えると,飽和磁化は1.210から1.413emu/cm³に増え,抗磁力は29から39Oeに増加した。すべてのCoFeCu膜は異方性磁気抵抗を示した。電解質のpHは,膜のモルフォロジ的磁気的性質に実際的に影響しているのが見られた。Copyright 2015 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *電着 ,  *pH【水素イオン指数】 ,  コバルト ,  鉄 ,  銅 ,  *金属薄膜 ,  構造 ,  *磁気的性質 ,  磁気抵抗 ,  結晶構造 ,  X線回折 ,  モルフォロジー ,  化学組成 ,  走査電子顕微鏡 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  飽和磁化 ,  保磁力
準シソーラス用語： Cu ,  元素組成 ,  抗磁力

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (3件)： 低pH ,  電着 ,  磁気的性質