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J-GLOBAL ID：201502232590777983   整理番号：15A0621325

フレキシブル応用のためのグラビア印刷プロセスを用いたパターン化銀ナノワイヤ

Patterned silver nanowires using the gravure printing process for flexible applications

著者 (3件)： PARK Jong Deck (School of Materials Sci. and Engineering, Yeungnam Univ., Gyeongsan 712-749, KOR) ,  LIM Sooman (School of Materials Sci. and Engineering, Yeungnam Univ., Gyeongsan 712-749, KOR) ,  KIM Haekyoung (School of Materials Sci. and Engineering, Yeungnam Univ., Gyeongsan 712-749, KOR)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 586  ページ： 70-75  発行年： 2015年07月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラビア印刷は,フレキシブルな大面積素子を高速で作製するための有望なエレクトロニクス印刷技術である。銀ナノワイヤ(Ag NW)を用いた透明導電性電極は,パターン化構造の作製が必要なフレキシブルエレクトロニクスや光学素子における酸化インジウムスズを置き換える有望な候補である。ここでは,ポリエチレンテレフタラート基板上に大面積パターン化透明均一Ag NW線を作製するために,Ag NWを採用するためのグラビア印刷プロセスパラメータを調べた。印刷速度と圧力とともに,インク移転特性が変化し,論じたように,これらのパラメータが印刷された様々な温度で熱処理されたAg NWの電気的性質を変化させた。基本的なインク移転機構を理解するためには,インクのレオロジー的な特性,印刷速度,圧力が重要であることが確認された。90°Cで乾燥させた450μmの線幅に対する印刷された線抵抗は,95%の透過率と100μmの印刷線間ギャップで以て,32Ωmm^-1であった。印刷されたAg NWの線幅と間隔は,応用に特化した素子性能を最適化するために,ここで調べたパラメータを用いて制御することができる。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 電子技術 ,  *グラビア印刷 ,  パターン形成 ,  *ナノワイヤ ,  透明導電膜 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  面積 ,  プロセスパラメータ ,  透過率
準シソーラス用語： フレキシブルエレクトロニクス ,  パターン化 ,  *銀ナノワイヤ ,  大面積

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 応用 ,  グラビア印刷 ,  プロセス ,  パターン化 ,  銀ナノワイヤ