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J-GLOBAL ID：201502232781329891   整理番号：15A0649044

パックシリコナイジングによりNb-1Zr-0.1C合金上に形成したケイ化物相の特性評価

Characterization of silicide phases formed during pack siliconizing coating on the Nb-1Zr-0.1C alloy

著者 (7件)： VISHWANADH B. (Materials Sci. Div., Bhabha Atomic Res. Centre, Mumbai, 400085, IND) ,  MAJUMDAR S. (Materials Processing Div., Bhabha Atomic Res. Centre, Mumbai, 400085, IND) ,  ORSBORN J. (Materials Sci. and Engineering, The Ohio State Univ., Columbus, OH, 43210, USA) ,  BANERJEE R. (Materials Sci. and Engineering, Univ. of North Texas, Denton, OH, 43210, USA) ,  TEWARI R. (Materials Sci. Div., Bhabha Atomic Res. Centre, Mumbai, 400085, IND) ,  FRASER H. (Materials Sci. and Engineering, The Ohio State Univ., Columbus, OH, 43210, USA) ,  DEY G.K. (Materials Sci. Div., Bhabha Atomic Res. Centre, Mumbai, 400085, IND)
資料名： Intermetallics  (Intermetallics)
巻： 63  ページ： 59-66  発行年： 2015年08月 
JST資料番号： W0672A  ISSN： 0966-9795  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,パックセメンテーション法によりNb基合金上に形成したケイ化物被覆中に観察された相の形態,化学組成,および結晶性について述べた。透過型電子顕微鏡および走査電子顕微鏡により観察した断面組織において,被覆はNbSi₂とNb₅Si₃の2種類のケイ化物層を示した。NbSi₂は試料表面に形成し,Nb₅Si₃は基板(Nb合金)とNbSi₂被覆層の間に形成した。電子回折分析により,NbSi₂は格子定数がa=0.48nm,c=0.66nmの六方晶構造,Nb₅Si₃は格子定数がa=0.65nm,c=1.19nmの正方晶構造であることが明らかになった。Nb₅Si₃は微細な等軸晶であったが,NbSi₂はNb₅Si₃層近傍では柱状晶,被覆表面では粗大な等軸晶の二重形態を有していた。二重形態の存在は様々な種の拡散の予測により説明でき,柱状晶はNbの外方拡散,等軸晶はSiの内部拡散に帰せられた。Nb₅Si₃の場合,単独元素Siの拡散により成長し,Nb₅Si₃相の単独等軸形態が形成した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 耐熱合金 ,  *ニオブ合金 ,  ジルコニウム含有合金 ,  炭素含有合金 ,  防食 ,  高温酸化 ,  拡散浸透めっき ,  *ケイ化処理 ,  被覆層 ,  *金属組織 ,  *結晶構造 ,  相組成 ,  ケイ化物 ,  ニオブ化合物 ,  格子定数 ,  六方晶系 ,  正方晶系 ,  結晶形態 ,  結晶粒度 ,  等軸組織 ,  柱状晶 ,  拡散 ,  電子回折 ,  電子顕微鏡観察 ,  結晶方位 ,  極点図
準シソーラス用語： パックセメンテーション ,  シリコナイジング ,  ミクロ組織【金属組織】 ,  等軸晶【金属組織】 ,  生成機構 ,  走査電子顕微鏡法 ,  透過型電子顕微鏡法 ,  結晶配向 ,  EBSD法

分類 (3件)： 防食  (WB03040M) ,  拡散浸透めっき  (WC08025J) ,  変態組織,加工組織  (WB01030N)

タイトルに関連する用語 (4件)： シリコナイジング ,  Nb ,  ケイ化物 ,  特性評価