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J-GLOBAL ID：201502233598621938   整理番号：15A0601358

シリコンの結晶異方性ウエットエッチングによる円錐形状の表面微細構造の作製

著者 (6件)： 石井朋幸 (九州工大) ,  清水正義 (九州工大) ,  村上直 (九州工大) ,  伊藤高廣 (九州工大) ,  田代康典 (三島光産) ,  鬼木喬玄 (三島光産)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2015  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.M09  発行年： 2015年03月01日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,水酸化テトラメチルアンモニウムを使用した単結晶シリコン(SCS)の結晶異方性ウエットエッチングにおいて,その条件等により加工後の形状を制御することで,昨年度までに作製した凸の四角錐形状に加え,円錐形状の表面微細構造の作製を試みた。特に,ウエットエッチングにおけるSCS基板の結晶異方性とエッチング時の保護マスクパターン形状に着目することで,底面が円形状の表面微細構造物の作製に成功した。(著者抄録)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *ウェットエッチング ,  型 ,  *ウエハ【IC】 ,  表面性状 ,  表面構造 ,  パターン形成 ,  パターン転写 ,  *表面加工 ,  円錐
準シソーラス用語： シリコン基板 ,  フォトマスクパターン ,  異方性エッチング ,  円錐形 ,  単結晶シリコン

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： 水酸化テトラメチルアンモニウム

タイトルに関連する用語 (7件)： シリコン ,  結晶 ,  異方性 ,  エッチング ,  円錐形 ,  表面微細構造 ,  作製