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J-GLOBAL ID：201502233853800540   整理番号：15A0199693

Si単結晶薄膜におけるピコ秒格子歪み分布の解析

著者 (13件)： 西森一喜 (関西学院大 理工) ,  NEWTON Marcus (Southampton大) ,  小川奏 (理研RSC) ,  富樫格 (JASRI) ,  矢橋牧名 (理研RSC) ,  河口智也 (京大 大学院) ,  境田真志 (京大 大学院) ,  高橋功 (関西学院大 理工) ,  市坪哲 (京大 大学院) ,  松原英一郎 (京大 大学院) ,  西野吉則 (北大 電子科研) ,  田中義人 (兵県大) ,  田中義人 (兵県大 多重極限物質科セ)
資料名： 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集  (日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム)
巻： 28th  ページ： 66  発行年： 2015年01月10日 
JST資料番号： L1310A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *格子歪 ,  単結晶 ,  *ケイ素 ,  半導体薄膜 ,  ピコ秒 ,  X線レーザ ,  自由電子レーザ ,  X線 ,  電磁パルス ,  *X線回折 ,  SOI構造 ,  パルスレーザ照射 ,  SACLA【レーザ】 ,  回折パターン ,  コヒーレントX線 ,  X線パルス
準シソーラス用語： パルスX線

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (6件)： Si ,  単結晶薄膜 ,  ピコ秒 ,  格子歪み ,  分布 ,  解析