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J-GLOBAL ID：201502234701259998   整理番号：15A0598438

(100-x)ZnO-xBi₂O₃セラミックターゲットを用いてマグネトロンスパッタで作製したボロンドープZnO薄膜のキャラクタラリゼーション

Characterization of boron-doped ZnO thin films prepared by magnetron sputtering with (100- x)ZnO-xB₂O₃ ceramic targets

著者 (2件)： WONG Lian-Hong (Dep. of Materials Sci. and Engineering, National United Univ., Miaoli 36003, Taiwan) ,  LAI Yi-Sheng (Dep. of Materials Sci. and Engineering, National United Univ., Miaoli 36003, Taiwan)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 583  ページ： 205-211  発行年： 2015年05月29日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： (100-x)ZnO-xBi₂O₃(x=0,1,2,3,4,5,7および10重量%)のいろいろな組成のセラミックターゲットを用いて,高周波マグネトロンスパッタによりボロンドープ酸化亜鉛(ZnO:B)薄膜を作製した。ZnO:B薄膜の表面形態,結晶構造,透過率,および電気的挙動は,セラミックターゲットのボロン含有量に依存することを見出した。我々の結果は,3重量%Bi₂O₃セラミックターゲットを用いて堆積させたZnO:B薄膜は5.65×10^-3Ωcmの最も低い抵抗率,および90%の可視光透過率を示すことを示唆した。本研究は,セラミックターゲットによるZnO薄膜へのBの効果的ドーピングを明らかにした。ZnO-Bi₂O₃セラミックターゲット組成とZnO:B薄膜の特性との相関についても検討した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  *酸化亜鉛 ,  *酸化ビスマス ,  *固溶体 ,  *ドーピング ,  ホウ素 ,  結晶構造 ,  透過率 ,  モルフォロジー ,  *表面構造 ,  *電気抵抗率 ,  可視光 ,  化合物半導体
準シソーラス用語： 表面形態 ,  光透過率

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O)

タイトルに関連する用語 (6件)： ZnO ,  セラミック ,  ターゲット ,  マグネトロンスパッタ ,  作製 ,  ZnO薄膜