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J-GLOBAL ID：201502235194261132   整理番号：15A0708957

模擬太陽照射下でのカルバマゼピンの効果的な光接触分解に用いる階層的BiOClミクロスフェアの迅速合成

Rapid synthesis of hierarchical BiOCl microspheres for efficient photocatalytic degradation of carbamazepine under simulated solar irradiation

著者 (6件)： GAO Xiaoya (Coll. of Chemistry and Chemical Engineering, Taiyuan Univ. of Technol., Taiyuan 030024, CHN) ,  ZHANG Xiaochao (Coll. of Chemistry and Chemical Engineering, Taiyuan Univ. of Technol., Taiyuan 030024, CHN) ,  WANG Yawen (Coll. of Chemistry and Chemical Engineering, Taiyuan Univ. of Technol., Taiyuan 030024, CHN) ,  PENG Shiqi (Coll. of Chemistry and Chemical Engineering, Taiyuan Univ. of Technol., Taiyuan 030024, CHN) ,  YUE Bin (Coll. of Chemistry and Chemical Engineering, Taiyuan Univ. of Technol., Taiyuan 030024, CHN) ,  FAN Caimei (Coll. of Chemistry and Chemical Engineering, Taiyuan Univ. of Technol., Taiyuan 030024, CHN)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 263  ページ： 419-426  発行年： 2015年03月01日 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超音波支援による30分のソルボサーマル時間でのジエチレングリコール(DEG)媒介ソルボサーマル法による階層的BiOClミクロスフェアの合成のための迅速法を開発した。得られた試料の物理化学的性質を調べ,その結果からDEGと超音波がBiOCl触媒のモルフォロジー,構造,及び表面特性に影響することが分かった。これにより更にその特異な光触媒性能が決まる。合成したBiOClは模擬太陽照射下でのカルバマゼピンの分解に対して高い光触媒効率を示した。カルバマゼピンは150分の照射後にほぼ完全に除去された。この光触媒反応は擬一次反応速度に従い,反応速度定数は市販TiO₂(P25)の9.48倍を超える。この高い光触媒活性は階層的ナノ構造,曝露された{110}ファセット,特別な緩い充填構造,及び豊富な表面ヒドロキシル基に起因する。ラジカル及び正孔トラップ実験により光触媒過程にはh⁺,^・OH,及び^・O₂^-が関与していることが分かった。得られた結果から階層的BiOClの合成に新たな視野が得られ,水からの難分解性医薬汚染物質の除去に適用を広げられると見られる。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *太陽 ,  *太陽光 ,  光照射 ,  *ウレア化合物 ,  *窒素複素環化合物 ,  *芳香族縮合化合物 ,  *光分解 ,  *接触分解 ,  階層構造 ,  ビスマス化合物 ,  酸塩化物 ,  ミクロスフェア ,  化学合成 ,  超音波照射 ,  *光触媒 ,  光触媒反応 ,  モルフォロジー ,  結晶構造 ,  表面性状 ,  反応速度論 ,  反応速度定数 ,  触媒活性 ,  ナノ構造 ,  ファセット ,  酸化防止 ,  キャリア捕獲 ,  汚染物質 ,  汚染 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  透過型電子顕微鏡 ,  可視スペクトル ,  紫外スペクトル ,  反射スペクトル ,  エーテル ,  脂肪族アルコール ,  ヒドロキシ基 ,  残留性有機汚染物質
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  *模擬太陽 ,  ソルボサーマル合成 ,  表面特性 ,  一次反応速度論 ,  光触媒活性 ,  ラジカル捕捉作用 ,  正孔トラップ ,  難分解性有機汚染物質 ,  薬物汚染 ,  紫外可視スペクトル ,  拡散反射スペクトル

分類 (5件)： 七員複素環化合物  (CF07110I) ,  光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  光化学反応  (CB08020F) ,  下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

物質索引 (2件)： カルバマゼピン ,  ジエチレングリコール

タイトルに関連する用語 (5件)： 模擬太陽 ,  カルバマゼピン ,  光接触 ,  分解 ,  ミクロスフェア