文献

J-GLOBAL ID：201502235436884504   整理番号：15A0294921

篭状シルセスキオキサンナノアイランドとフルオロアクリレートとの統合によるナノのしわを有する二層モスアイ状反射防止表面の容易な二段階調製

A facile two-step fabrication of nano-wrinkled double-layer moth-eye-like antireflection surface by integrating cage-like silsesquioxane nanoislands with fluoroacrylate

著者 (11件)： PENG Jun (Guangdong Provincial Key Lab. of Organic Polymer Materials for Electronics, Guangzhou Inst. of Chemistry, Chinese ...) ,  LIN Weihong (Guangdong Provincial Key Lab. of Organic Polymer Materials for Electronics, Guangzhou Inst. of Chemistry, Chinese ...) ,  LIN Weihong (Univ. of Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN) ,  XING Yuxiu (Guangdong Provincial Key Lab. of Organic Polymer Materials for Electronics, Guangzhou Inst. of Chemistry, Chinese ...) ,  XING Yuxiu (Univ. of Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN) ,  XU Kai (Guangdong Provincial Key Lab. of Organic Polymer Materials for Electronics, Guangzhou Inst. of Chemistry, Chinese ...) ,  SHUXI Gao (Guangdong Provincial Key Lab. of Organic Polymer Materials for Electronics, Guangzhou Inst. of Chemistry, Chinese ...) ,  SHUXI Gao (Univ. of Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN) ,  YUANYUAN Ren (Guangdong Provincial Key Lab. of Organic Polymer Materials for Electronics, Guangzhou Inst. of Chemistry, Chinese ...) ,  YUANYUAN Ren (Univ. of Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100049, CHN) ,  CHEN Mingcai (Guangdong Provincial Key Lab. of Organic Polymer Materials for Electronics, Guangzhou Inst. of Chemistry, Chinese ...)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 143  ページ： 1-4  発行年： 2015年03月15日 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 石英基板上のシルセスキオキサン硬質層にオクタキス(メタクリルオキシプロピル)シルセスキオキサン系ポリマー表面を結合させて,ナノのしわを有する二層モスアイ状反射防止コーティング(ARC)表面を作製した。硬質層とトップ層中で,オクタキス(アミノフェニル)シルセスキオキサン(OAPS)はデカキス(メタクリルオキシプロピル)シルセスキオキサン(CMSQ-T₁₀)とAza-Michael付加で反応し,オクタキス(メタクリルオキシプロピル)シルセスキオキサン(CMSQ-T₈)はヘキサフルオロブチルアクリレート(HFBA)とラジカル重合で各々重合した。トップ層と硬質層との体積収縮の不整合に起因する圧縮応力はしわのあるナノパターン化構造につながった。また,シルセスキオキサン層はトップポリマー表面のために,その場テンプレートと足場として供された。反射率は3.5%(透過率98.5%)に減少し,得られたARC表面は明らかな疎水性を示した。これらのARC表面は太陽電池,カメラレンズ及び他の光電部品に広範な応用が期待される。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *反射防止膜 ,  素子構造 ,  *化学合成 ,  *有機ケイ素化合物 ,  *ナノ構造 ,  *島状構造 ,  *カルボン酸エステル ,  *脂肪族フッ素化合物 ,  石英 ,  多層膜 ,  Michael反応 ,  ラジカル重合 ,  皮膜 ,  表層 ,  収縮 ,  不整合 ,  圧縮応力 ,  皺 ,  パターン形成 ,  反射率 ,  光反射 ,  透過率 ,  光透過 ,  疎水性
準シソーラス用語： *アクリル酸ヘキサフルオロブチル ,  アザMichael反応 ,  *シルセスキオキサン ,  *ナノアイランド ,  ナノパターン形成 ,  *モスアイ構造 ,  二層構造 ,  *二段階合成 ,  光透過率 ,  光反射率 ,  硬質膜 ,  体積収縮

分類 (1件)： ガラスの製造  (YC02020O)

物質索引 (1件)： 1,3,5,7,9,11,13,15-オクタキス[3-(メタクリロイルオキシ)プロピル]-1,3,5,7,9,11,13,15-オクタシラ-2,4,6,8,10,12,14,16,17,18,19,20-ドデカオキサペンタシクロ[9.5.1.1^3,9.1^5,15.1^7,13]イコサン

タイトルに関連する用語 (8件)： 篭 ,  統合 ,  しわ ,  二層 ,  モス ,  反射防止 ,  段階 ,  調製