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J-GLOBAL ID：201502236630019870   整理番号：15A0546050

ArF液浸フォトリソグラフィーで作製したSiワイヤアレイ導波路回折格子の位相誤差の評価

Evaluation of the phase error in Si-wire arrayed-waveguide gratings fabricated by ArF-immersion photolithography

著者 (14件)： MURAMATSU Kyosuke (School of Integrated Design Engineering, Graduate School of Sci. and Technol., Keio Univ.) ,  ASAKURA Hideaki (School of Integrated Design Engineering, Graduate School of Sci. and Technol., Keio Univ.) ,  SUZUKI Keijiro (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  TANIZAWA Ken (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  TOYAMA Munehiro (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  OHTSUKA Minoru (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  YOKOYAMA Nobuyuki (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  MATSUMARO Kazuyuki (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  SEKI Miyoshi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  KOSHINO Keiji (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  IKEDA Kazuhiro (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  NAMIKI Shu (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  KAWASHIMA Hitoshi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  TSUDA Hiroyuki (School of Integrated Design Engineering, Graduate School of Sci. and Technol., Keio Univ.)
資料名： IEICE Electronics Express (Web)  (IEICE Electronics Express (Web))
巻： 12  号： 7  ページ： 20150019-20150019 (J-STAGE)  発行年： 2015年 
JST資料番号： U0039A  ISSN： 1349-2543  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ArF液浸フォトリソグラフィーで作製した100GHz間隔で8チャネルのSiワイヤアレイ導波路回折格子(AWG)の位相誤差を周波数領域干渉法により測定した。著者らの知っている限りでは,これはSiワイヤAWGで実行された初めての位相誤差測定である。その再構成伝送スペクトルを直接測定スペクトルと比較することで,この位相誤差測定の精度を確認した。6チップでのAWGの平均位相誤差は0.27πラジアンであった。この値は1.1×10^-4の実効屈折率の変動に等しい。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *アルゴン化合物 ,  *フッ化物 ,  *フォトリソグラフィー ,  開口数 ,  露光 ,  *ケイ素 ,  *回折格子 ,  アレイ回路 ,  *光導波路 ,  *誤差 ,  評価 ,  周波数領域 ,  *干渉測定 ,  測定精度 ,  屈折率 ,  位相
準シソーラス用語： *アレイ導波路回折格子 ,  フッ化アルゴン ,  ワイヤアレイ ,  *位相誤差 ,  液浸リソグラフィー ,  誤差評価

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (7件)：

• [1] H. Okayama, D. Shimura, H. Takahashi, M. Seki, M. Toyama, T. Sano, K. Koshino, N. Yokoyama, M. Ohtsuka, A. Sugiyama, S. Ishitsuka, T. Tsuchizawa, H. Nishi, K. Yamada, H. Yaegashi, T. Horikawa and H. Sasaki: Electron. Lett. 49 (2013) 410. DOI:10.1049/el.2013.0206
• [2] H. Okayama, D. Shimura, Y. Onawa, H. Takahashi, M. Seki, K. Koshino, N. Yokoyama, M. Oshtsuka, T. Tsuchizawa, H. Nishi, K. Yamada, H. Yaegashi, T. Horikawa and H. Sasaki: Electron. Lett. 49 (2013) 1401. DOI:10.1049/el.2013.2979
• [3] S.-H. Jeong, D. Shimura, T. Simoyama, M. Seki, N. Yokoyama, M. Ohtsuka, K. Koshino, T. Horikawa, Y. Tanaka and K. Morito: Opt. Express 21 (2013) 30163. DOI:10.1364/OE.21.030163
• [4] K. Takada and K. Okamoto: Electron. Lett. 36 (2000) 160. DOI:10.1049/el:20000156
• [5] T. Saida, T. Tanaka, T. Shibata, H. Takahashi and Y. Hida: IEEE Photon. Technol. Lett. 17 (2005) 1659. DOI:10.1109/LPT.2005.851973

タイトルに関連する用語 (9件)： ARF ,  液浸 ,  フォトリソグラフィー ,  作製 ,  Si ,  ワイヤ ,  アレイ導波路回折格子 ,  位相誤差 ,  評価