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J-GLOBAL ID：201502237494427108   整理番号：15A0715907

紫外線照射による表面濡れ性の制御が可能なポリイミド

著者 (1件)： 津田祐輔 (久留米工高専)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 95th  号： 1  ページ： 65  発行年： 2015年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 種々の疎水基を有するジアミンモノマーと種々のテトラカルボン酸二無水物及び共重合ジアミンであるDDEから溶解性に優れ耐熱性も十分な可溶性ポリイミドを合成した。得られたポリイミドの薄膜に紫外線を照射すると,水に対する接触角は照射した紫外線エネルギーに応じて約100°(疎水性)から最小20°程度(親水性)に制御可能であることが判明した。本技術は,紫外線照射により,ポリイミド表面を容易に疎水部と親水部にパターニングする手法として,プリンテッドエレクトロニクスの分野での応用が期待される。(著者抄録)

シソーラス用語： *ポリイミド ,  *濡れ ,  紫外線照射 ,  表面改質 ,  電子技術 ,  疎水性 ,  親水性 ,  パターン形成
準シソーラス用語： *表面濡れ性 ,  プリンテッドエレクトロニクス ,  パターンニング

分類 (1件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (3件)： 紫外線照射 ,  表面濡れ性 ,  ポリイミド