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J-GLOBAL ID：201502238227123902   整理番号：15A0707730

薄膜のナノ粒子分散をアニールするガス膨張高分子工程

Gas expanded polymer process to anneal nanoparticle dispersion in thin films

著者 (7件)： AMBUKEN Preejith V. (Dep. of Chemical Engineering, Tennessee Technological Univ., Cookeville, TN 38505, USA) ,  AMBUKEN Preejith V. (Center for Manufacturing Res., Tennessee Technological Univ., Cookeville, TN 38505, USA) ,  STRETZ Holly A. (Dep. of Chemical Engineering, Tennessee Technological Univ., Cookeville, TN 38505, USA) ,  DADMUN Mark (Dep. of Chemistry, Univ. of Tennessee, Knoxville, TN 37996, USA) ,  DADMUN Mark (Chemical Sciences Div., Oak Ridge National Lab., Oak Ridge, TN 37831, USA) ,  MICHAEL Kilbey S. (Dep. of Chemistry, Univ. of Tennessee, Knoxville, TN 37996, USA) ,  MICHAEL Kilbey S. (Dep. of Chemical and Bimolecular Engineering, Univ. of Tennessee, Knoxville, TN 37996, USA)
資料名： Solar Energy Materials and Solar Cells  (Solar Energy Materials and Solar Cells)
巻： 140  ページ： 101-107  発行年： 2015年09月 
JST資料番号： D0513C  ISSN： 0927-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(3-ヘキシルチオフェン)(P3HT)とフェニル-C61-酪酸メチルエステル(PCBM)ナノ粒子で構成する溶液をスピン被覆して作成した有機光起電力(OPV)活性層は,薄膜のサイズにわたり,非一様な濃度プロファイルをもつことが分かった。この不均一分布は,素子の効率を低下させる可能性がある。この研究では,新しい工程であるガス膨張高分子(GXP)アニーリングをP3HT/PCBM薄膜混合に適用して,GXP工程の条件を変えて,PCBMナノ粒子の分布を操作できるようにした。PCBMを混ぜたP3HT混合をスピン鋳造して作成した50nm厚膜を,高圧CO₂を利用した定圧下で振動性GXPでアニールした。P3HT結晶性(X線回折と紫外-可視分光法で検出)の増加,および,中性子反射率測定で確認されたように,厚さ方向にわたるPCBMナノ粒子のより一様な分布が,振動性GXPアニーリング後に観測された。さらに,静的水接触角の結果から,鍛造直後の膜に相対的に,膜/空気界面が過剰PCBMを含むことが示唆された。これらの結果は,GXPアニーリングを利用して,P3HT薄膜の厚さ方向に一様分布するPCBMナノ粒子を発生できることを実証する。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリヘキシルチオフェン ,  *フラーレン ,  *ナノ粒子 ,  *スピンコーティング ,  *太陽電池 ,  活性層 ,  濃度分布 ,  効率 ,  *熱処理 ,  熱膨張 ,  気体 ,  高分子薄膜 ,  混合物 ,  *高圧 ,  *二酸化炭素 ,  中性子反射 ,  *均一性
準シソーラス用語： P3HT【重合体】 ,  PCBM

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (5件)： 薄膜 ,  粒子分散 ,  アニール ,  膨張 ,  高分子