文献

J-GLOBAL ID：201502238512776375   整理番号：15A0374048

レーザ保護に向けたカルバゾール基による酸化グラフェンの共有結合修飾

Covalent Modification of Graphene Oxide with Carbazole Groups for Laser Protection

著者 (8件)： BAI Ting (Key Lab. for Advanced Materials, Inst. of Applied Chemistry, East China Univ. of Sci. and Technol., 130 Meilong Road ...) ,  LI Cong-Qi ,  SUN Jie ,  SONG Yi ,  WANG Jun ,  BLAU Werner J. ,  ZHANG Bin ,  CHEN Yu
資料名： Chemistry - European Journal  (Chemistry - European Journal)
巻： 21  号： 12  ページ： 4622-4627  発行年： 2015年03月16日 
JST資料番号： W0744A  ISSN： 0947-6539  CODEN： CEUJED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 過去数十年で,レーザ光からの保護用の実際的解決策を開発するため,光制限材料の研究開発へかなりの研究が費やされた。本研究では,カルバゾール誘導体(Cz)による酸化グラフェン(GO)の共有結合修飾により,新しい可溶性酸化グラフェンに基づく材料(GO-Cz)を合成した。Cz基とGO間のアミノ結合生成を,X線光電子分光法とFourier変換赤外分光法により確めた。Cz部のGO表面への共有結合グラフト化の結果として,同じ濃度下,非線形消衰係数と虚数三次磁化率の両方が,GOのものと比べ,532nmで約6.93倍,1064nmで約6.07倍増大した。GOとCz部間の可能な分子内電子移動と,異なる非線形光学機構の効果的組合せに因り,GO-Czは,532と1064nm下,GOやGO/Czブレンドより,かなり良好な光制限性能を示した。Copyright 2015 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *保護 ,  *レーザビーム ,  *光制御 ,  *光学材料 ,  *グラフェン ,  *酸化物 ,  *化学修飾 ,  *窒素複素環化合物 ,  *共有結合 ,  C-N結合 ,  X線光電子分光法 ,  FTIR分光法 ,  グラフト化【化学修飾】 ,  係数 ,  光学定数 ,  複素磁化率 ,  電子移動 ,  非線形光学 ,  組合せ
準シソーラス用語： *眼保護 ,  *レーザ光 ,  *光制限 ,  *酸化グラフェン ,  *カルバゾール誘導体 ,  アミド結合 ,  消衰係数 ,  分子内電子移動 ,  非線形光学効果

分類 (3件)： レーザ一般  (BD04030T) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  ピロールの縮合誘導体  (CF07077C)

タイトルに関連する用語 (4件)： レーザ ,  カルバゾール ,  酸化グラフェン ,  共有結合修飾