抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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半導体業界は他に類がない「超高清浄」を求められる業界である。その要求水準は半導体の進化とともに高度化され,製造装置や設備を構成する各種部材は,その進化に追従する清浄度を確保する必要がある。汚染物質は,パーティクル(異物微粒子),無機/有機汚染,金属不純物などに大別されるが,それらが物理的,化学的な影響を与えて,回路パターン欠陥,曇りの発生,ゲート素子の信頼性低下などの不良原因となるので,半導体製造に使用される各種構成部材は,それら汚染物質の発生を極力低減する必要がある。今回それら極微小・極微量汚染の正確な測定技術について前編としてパーティクル測定を解説し,あわせてPFAチューブの汚染の実態把握を行った結果を紹介した。詳細には,パーティクル測定として,従来の測定方法の問題点,その解決方法としてのパーティクル測定評価系,与圧測定による気泡ノイズ低減,さらにこの手法を用いた測定事例を述べた。