The In situ growth of Nanostructures on Surfaces (INS) endstation of the ESRF BM32 beamline: a combined UHV-CVD and MBE reactor for in situ X-ray scattering investigations of growing nanoparticles and semiconductor nanowires

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J-GLOBAL ID：201502239211517060 整理番号：15A0596686

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巻： 22 号： 3 ページ： 688-700 発行年： 2015年05月01日
JST資料番号： W0763A ISSN： 0909-0495 資料種別：逐次刊行物 (A)
発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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