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J-GLOBAL ID：201502239930564860   整理番号：15A0745800

Rh(100)表面でのH₂吸着および解離に対する被覆の影響についての第一原理研究

First-Principles Study about the Effect of Coverage on H₂ Adsorption and Dissociation over a Rh(100) Surface

著者 (5件)： ZHANG Riguang (Taiyuan Univ. Technol., Shanxi, CHN) ,  LIU Fu (Taiyuan Univ. Technol., Shanxi, CHN) ,  ZHAO Xiaojun (Taiyuan Univ. Technol., Shanxi, CHN) ,  WANG Baojun (Taiyuan Univ. Technol., Shanxi, CHN) ,  LING Lixia (Taiyuan Univ. Technol., Shanxi, CHN)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 119  号： 19  ページ： 10355-10364  発行年： 2015年05月14日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 密度汎関数理論計算(GGA/PW91)によって,Rh(100)表面でのH₂吸着および解離について調べた。水素の吸着構造には水素分子が金属表面に対して垂直または平行の二通りがあること,後者の方がエネルギー的には安定であること,水素被覆度(1/12~1/2単分子層)は吸着構造には影響しないこと,被覆度の増大に伴って吸着エネルギーは減少すること(66.7~61.7kcal/mol),水素分子の解離の方が脱離よりも起きやすいこと,水素解離の活性化エネルギーは被覆量と正の相関があること,共吸着したCOの解離には吸着水素原子が関与することなどが分かった。

シソーラス用語： *ロジウム ,  *水素 ,  *解離 ,  *被覆率 ,  *依存性 ,  *吸着 ,  表面構造 ,  一酸化炭素 ,  共吸着 ,  活性化エネルギー ,  結合部位 ,  密度汎関数法
準シソーラス用語： 吸着サイト ,  吸着構造 ,  *金属表面 ,  *第一原理計算

分類 (2件)： 吸着の電子論  (CB12042Y) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

タイトルに関連する用語 (6件)： Rh ,  H2 ,  吸着 ,  解離 ,  第一原理 ,  研究