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J-GLOBAL ID：201502240501957712   整理番号：15A0698338

ITO基板への接合部位を持つ[1]ロタキサン型共役アンカー分子の合成

著者 (5件)： 金子俊一 (京大 大学院) ,  正井宏 (京大 大学院) ,  寺尾潤 (京大 大学院) ,  藤原哲晶 (京大 大学院) ,  辻康之 (京大 大学院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 95th  号： 4  ページ： 1020  発行年： 2015年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 分子エレクトロニクスにおいて,界面と有機分子の接合部位の物性は,有機分子同士の相互作用によって大きく変化する。本研究では分子間の相互作用を抑制するため,接合部位としてリン酸基を有するπ共役ゲスト部位を完全メチル化シクロデキストリンにより被覆した[1]ロタキサン型構造を持つアンカー分子を合成し,ITO基板に接合させ,その表面形状をAFMで観察した。(著者抄録)

シソーラス用語： *ロタキサン ,  *シクロデキストリン ,  *分子 ,  包接化合物 ,  共役 ,  リン化合物 ,  *有機リン酸 ,  酸化インジウムスズ ,  基板 ,  ハイブリッド複合材料 ,  原子間力顕微鏡 ,  形態 ,  加水分解
準シソーラス用語： *ゲスト分子 ,  *ホスホン酸類 ,  *共役分子 ,  表面形状 ,  有機無機ハイブリッド複合材料

分類 (2件)： 有機りん化合物  (CF08040N) ,  分子化合物  (CE02000C)

物質索引 (1件)： 完全メチル化α-シクロデキストリン

タイトルに関連する用語 (6件)： ITO基板 ,  接合部位 ,  ロタキサン ,  共役 ,  アンカー ,  分子