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J-GLOBAL ID：201502241242137929   整理番号：15A0700116

嵩高いケイ素置換基を保護基として用いたオリゴ糖合成

著者 (6件)： 松本拓磨 (埼玉大 工) ,  伊藤諒 (埼玉大 工) ,  神瀬龍平 (埼玉大 工) ,  小山哲夫 (埼玉大 工) ,  松岡浩司 (埼玉大 工) ,  幡野健 (埼玉大 工)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 95th  号： 4  ページ： 1492  発行年： 2015年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： オリゴ糖の合成において,従来の方法では目的の糖を合成するために,多段階に渡る水酸基の保護-脱保護操作を行わなければならず,これは手間とコスト面においてデメリットとなっている。それに対し我々の方法は,嵩高いケイ素保護基の立体保護効果を利用することで,立体障害の少ない遊離水酸基へのグリコシル化を位置選択的に制御でき,また保護基の嵩高さで結晶性を向上させることで,より簡便に精製することもできる。ラクトースのC-1,C-6,C-6’位の3箇所を市販のケイ素保護基で保護した糖受容体はラクトースから一段階反応により合成でき,再結晶で精製できる。当日は,ケイ素保護基を利用したオリゴ糖合成について報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *少糖類 ,  *有機ケイ素化合物 ,  *基 ,  脱保護基 ,  化学合成 ,  *グリコシル化 ,  立体効果 ,  ヒドロキシ基 ,  ヘキソース ,  アルドース ,  ガラクトシド ,  二糖類 ,  ピラノシド
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  *保護基

分類 (2件)： 少糖類  (CF10053Y) ,  付加反応,脱離反応  (CF02030M)

物質索引 (1件)： ラクトース

タイトルに関連する用語 (4件)： ケイ素 ,  置換基 ,  保護基 ,  オリゴ糖合成