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J-GLOBAL ID：201502243525152749   整理番号：15A0397292

固体Xe(H₂)_nの構造と安定性

Structure and stability of solid Xe(H₂)_n

著者 (4件)： SOMAYAZULU Maddury (Geophysical Lab., Carnegie Institution of Washington, Washington, DC 20015-1305, USA) ,  DERA Przemyslaw (GSECARS, Advanced Photon Source, Univ. of Chicago, Argonne, Illinois 60439, USA) ,  SMITH Jesse (HPCAT, Advanced Photon Source, Geophysical Lab., Carnegie Institution of Washington, Argonne, Illinois 60439, USA) ,  HEMLEY Russell J. (Geophysical Lab., Carnegie Institution of Washington, Washington, DC 20015-1305, USA)
資料名： Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)
巻： 142  号： 10  ページ： 104503-104503-8  発行年： 2015年03月14日 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： キセノン及び分子水素の混合物は,高圧及び300Kにおいて一連のvan der Waals化合物を形成する。シンクロトロン,X線,単結晶回折実験は,P3m1構造においてXe(H₂)₈が7.5GPa以下で結晶化し,2c及び2dサイト上に位置する二つのキセノン原子の対の圧力誘起占有数変化を示し,他方もう一つの2cサイト上で第三の対はフル占有数のままである。その占有数はP3m1で1からR3遷移になり,全キセノン原子は高圧構造において3dサイトを占有する。それらの圧力誘起の占有数変化は平均Xe:H₂化学量論を1.8に固定化されて維持する。シンクロトロンX線回折及びRaman測定は,4.2GPa及び300Kで合成され得るそのユニークな水素含有化合物は低圧で大気圧にクエンチされ,逐次加温で90Kに維持される。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： キセノン ,  水素 ,  クラスタ ,  *混合物 ,  高圧 ,  結晶 ,  X線回折 ,  *単結晶 ,  Ramanスペクトル ,  *安定性 ,  van der Waals分子
準シソーラス用語： 構造安定性 ,  水素分子

分類 (2件)： 非金属化合物  (CD01070R) ,  非金属元素とその化合物の結晶構造  (BK07010N)

タイトルに関連する用語 (4件)： 固体 ,  Xe ,  H2 ,  安定性