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J-GLOBAL ID：201502245111048039   整理番号：14A1244141

表面/界面効果を持つコア-シェルナノワイヤ表面上に成長させた環状歪膜における不整合転位【Powered by NICT】

Misfit dislocations in an annular strained film grown on core-shell nanowires surface with surface/interface effects

著者 (3件)： Zhang Di (State Key Lab. of Advanced Design and Manufacturing for Vehicle Body, Hunan Univ., Changsha) ,  Liu Youwen (State Key Lab. of Advanced Design and Manufacturing for Vehicle Body, Hunan Univ., Changsha) ,  Zhao Yingxin (State Key Lab. of Advanced Design and Manufacturing for Vehicle Body, Hunan Univ., Changsha)
資料名： Yingyong Lixue Xuebao  (Yingyong Lixue Xuebao)
巻： 30  号： 6  ページ： 859-863  発行年： 2013年 
JST資料番号： C2478A  ISSN： 1000-4939  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 界面応力を持つコア-シェルナノワイヤ表面に位置したスクリュー不整合転位の臨界形成条件について検討した。膜とナノワイヤの複素ポテンシャル関数の解析解は複素変数法により導いた。コア-シェルナノワイヤ表面上で成長する不整合転位の形成に及ぼす表面/界面効果の影響を論じた。得られた結果は,正(負)の表面/界面効果は,臨界膜厚および臨界せん断率を減少する(増加する)ことを示した。相対剛性率の複合基板と膜がある値を超えると,らせん不整合転位は正の表面/界面効果を考慮した場合,形成されない。正(負)の表面/界面残留応力が臨界膜厚の程度を増加(減少)させるであろう。正(負)の表面/界面効果は増加(減少)させる臨界被膜厚,臨界不整合歪。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *不整合転位 ,  残留応力 ,  剛性率 ,  剪断係数 ,  膜厚 ,  解析的解法 ,  *ナノワイヤ
準シソーラス用語： ポテンシャル関数 ,  界面応力 ,  不整合歪 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 振動伝搬  (BB02040K)

タイトルに関連する用語 (7件)： 界面 ,  コア-シェル ,  ワイヤ表面 ,  成長 ,  環状 ,  歪 ,  不整合転位