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J-GLOBAL ID：201502245123091380   整理番号：15A0708704

Ag:TiO₂ナノ複合材料薄膜における熱アニール誘起プラズモンブリーチング

Study of thermal annealing induced plasmonic bleaching in Ag:TiO₂ nanocomposite thin films

著者 (3件)： KUMAR Manish (Inter Univ. Accelerator Centre, Aruna Asaf Ali Marg, New Delhi 110067, IND) ,  KUMAR Tanuj (Central Univ. of Haryana, Jant-Pali, Mahendergarh 123029, IND) ,  AVASTHI Devesh Kumar (Inter Univ. Accelerator Centre, Aruna Asaf Ali Marg, New Delhi 110067, IND)
資料名： Scripta Materialia  (Scripta Materialia)
巻： 105  ページ： 46-49  発行年： 2015年08月 
JST資料番号： B0915A  ISSN： 1359-6462  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金属ナノ材料のプラズモン特性は熱処理に大きな影響を及ぼす。そのような効果の一つが,’原子ビーム共スパッタリング’で得られるAg:TiO₂ナノ複合材料薄膜を450°Cでアニールしたときに観察される’プラズモンブリーチング’である。ブリーチングの起源について,すれすれ入射X線回折およびRutherford後方散乱分光法を用いて調査した。関連するホストマトリックス相互作用を理解するために,蒸着中および熱処理後のAgナノ粒子の動力学について示す。Rutherford材料プログラムシミュレーションに基づいて,可能性のあるブリーチングのメカニズムを示す。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *蒸着膜 ,  *ナノ複合材料 ,  *ナノ粒子 ,  *酸化チタン ,  原子ビーム ,  *熱処理 ,  *プラズマ共鳴 ,  Rutherford後方散乱 ,  光吸収スペクトル
準シソーラス用語： すれすれ入射X線回折 ,  共スパッタリング ,  *銀ナノ粒子 ,  *熱アニール ,  *表面プラズモン共鳴

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (8件)： Ag ,  TiO2 ,  ナノ複合材料 ,  薄膜 ,  熱アニール ,  誘起 ,  プラズモン ,  ブリーチング