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J-GLOBAL ID：201502245409298127   整理番号：15A0241180

ガラス状炭素超薄膜修飾シリカを利用する新たな分離媒体の開発

Development of a new separation media using ultra-thin glassy carbon film modified silica

著者 (2件)： WANG Hui (Dep. of Chemistry and Biochemistry, The Ohio State Univ., 100 W. 18th Avenue, Columbus, OH 43210, USA) ,  OLESIK Susan V. (Dep. of Chemistry and Biochemistry, The Ohio State Univ., 100 W. 18th Avenue, Columbus, OH 43210, USA)
資料名： Journal of Chromatography A  (Journal of Chromatography A)
巻： 1379  ページ： 56-64  発行年： 2015年01月30日 
JST資料番号： C0278B  ISSN： 0021-9673  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 自己重合性オクタテトライン,1,8-ジアルデヒドベンジル-1,3,5,7-オクタテトラインを合成し,シリカ粒子のアミノ機能化表面に共有結合によって結合させた。その後,オクタテトラインの単層膜が被覆したシリカ粒子を200,400,及び700°Cの最終温度まで熱処理した。アミノ機能化,オクタテトラインの共有結合,及び熱処理を,走査型電子顕微鏡(SEM),赤外分光法(IR),及び熱重量分析(TGA)によってモニターした。その後,熱処理粒子をキャピラリーカラムに充填し,HPLCの固定相として評価した。クロマトグラフィーの評価の後,熱処理の最適温度が400°Cとして決定され,これが,ガラス状炭素超薄膜被覆シリカ粒子SiO₂-OCT-T400を与えた。線形溶媒和エネルギー関係モデルは,保持への主要な貢献因子が分散と水素結合塩基性であることを示唆した。固定相としてのSiO₂-OCT-T400の適用が,非極性炭化水素混合物とヌクレオシド混合物の成功裏の分離によって実証された。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ガラス状炭素 ,  *超薄膜 ,  *表面改質 ,  *分離 ,  共有結合 ,  化学結合 ,  芳香族アルデヒド ,  熱処理 ,  走査電子顕微鏡 ,  赤外分光法 ,  熱重量分析 ,  毛管カラム ,  高速液体クロマトグラフィー ,  クロマトグラフ用カラム ,  溶媒和 ,  *固定相 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  界面化学結合

分類 (2件)： クロマトグラフィー,電気泳動  (CC01050S) ,  液体クロマトグラフィー  (CC04014L)

物質索引 (1件)： 3-アミノプロピルトリメトキシシラン

タイトルに関連する用語 (6件)： ガラス状炭素 ,  超薄膜 ,  修飾 ,  シリカ ,  媒体 ,  開発