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J-GLOBAL ID：201502247053339373   整理番号：15A0336325

ポリスチレンや超高分子量ポリエチレンへの乾式グラフェン転写印刷 詳細化学と構造,形態,電気的特性化

Dry graphene transfer print to polystyrene and ultra-high molecular weight polyethylene - Detailed chemical, structural, morphological and electrical characterization

著者 (14件)： LOCK Evgeniya H. (Materials Sci. and Technol. Div., Naval Res. Lab., Washington, DC 20375, USA) ,  DELONGCHAMP Dean M. (Polymers Div., National Inst. of Standards and Technol., Gaithersburg, MD 20899, USA) ,  SCHMUCKER Scott W. (National Res. Council Postdoctoral Res. Associate, Washington, DC 20375, USA) ,  SIMPKINS Blake (Chemistry Div., Naval Res. Lab., Washington, DC 20375, USA) ,  LASKOSKI Matthew (Chemistry Div., Naval Res. Lab., Washington, DC 20375, USA) ,  MULVANEY Shawn P. (Chemistry Div., Naval Res. Lab., Washington, DC 20375, USA) ,  HINES Daniel R. (Lab. for Physical Sciences, Coll. Park, MD 20740, USA) ,  BARAKET Mira (National Res. Council Postdoctoral Res. Associate, Washington, DC 20375, USA) ,  HERNANDEZ Sandra C. (Plasma Physics Div., Naval Res. Lab., Washington, DC 20375, USA) ,  ROBINSON Jeremy T. (Electronics Div., Naval Res. Lab., Washington, DC 20375, USA) ,  SHEEHAN Paul E. (Chemistry Div., Naval Res. Lab., Washington, DC 20375, USA) ,  JAYE Cherno (Polymers Div., National Inst. of Standards and Technol., Gaithersburg, MD 20899, USA) ,  FISHER Daniel A. (Polymers Div., National Inst. of Standards and Technol., Gaithersburg, MD 20899, USA) ,  WALTON Scott G. (Plasma Physics Div., Naval Res. Lab., Washington, DC 20375, USA)
資料名： Carbon  (Carbon)
巻： 86  ページ： 288-300  発行年： 2015年05月 
JST資料番号： H0270B  ISSN： 0008-6223  CODEN： CRBNA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 付着力の差に依存する転写印刷手法を使用して,グラフェン(Gr)-ポリスチレン(PS)とグラフェン(Gr)-超高分子量ポリエチレン(UHMWPE)積層板を作製した。高分子の表面は,プラズマ機能化の後にN-エチルアミノ-4-アジドテトラフルオロベンゾエート(TFPA)蒸着を使用して調製した。Cu箔上のグラフェンとTFPA被覆高分子を高い温度と温和な圧力で圧着した後,それらを機械的剥離で分離した。Hall効果測定を使用して,転写グラフェンの電荷キャリア密度と移動度を決定した。グラフェンの電気特性が保存されて,SiO₂/Si上のグラフェンに匹敵するとわかった。さらに,PSとUHMWPEへのTFPA付着の変調は異なるTFPA層の微細構造をもたらし,従ってグラフェンの圧縮歪みやドーピング,移動度に変化を生ずる。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *グラフェン ,  マテリアルハンドリング ,  転写 ,  高分子膜 ,  *ポリスチレン ,  *超高分子量ポリエチレン ,  基板 ,  表面改質 ,  プラズマ曝露 ,  付着力 ,  電気的性質 ,  Hall効果

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の成形  (YH04090Q)

物質索引 (1件)： N-(エチルアミノ)-4-アジド-2,3,5,6-テトラフルオロベンズアミド

タイトルに関連する用語 (7件)： ポリスチレン ,  高分子量ポリエチレン ,  グラフェン ,  転写印刷 ,  詳細化学 ,  形態 ,  電気的特性