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J-GLOBAL ID：201502251119188875   整理番号：15A0069251

染料-グラフェンシステムの非線形光学パラメータに対する錯体生成の影響

Effect of complex formation on nonlinear optical parameters of dye-graphene system

著者 (6件)： BONGU Sudhakara Reddy ,  BISHT Prem B. ,  KALANOOR Basanth S. ,  NAMBOODRI Raman C.K. ,  NAYAK Pranati ,  RAMAPRABHU Sundara
資料名： Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry  (Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry)
巻： 299  ページ： 54-61  発行年： 2015年02月15日 
JST資料番号： D0721B  ISSN： 1010-6030  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 染料における飽和できる吸収の影響は官能化水素誘起膨張しわ黒鉛(f-HEG)の存在下著しく減少する。吸収スペクトルは,基底状態での錯体生成の強い証拠を示した。染料の吸収スペクトル及び非線形光学特性は,種々の程度にf-HEG及び銀装飾グラフェン(Ag-F-HEG)により影響された。開放絞りZスキャン及び縮退四波混合(DFWM)を使用して,オフf-HEG及びAg-F-HEG存在下非線形光学パラメータにおける劇的変化を記録した。結果は,非蛍光基底状態電荷移動錯体生成の故非線形性の平均値における減少が示された。高入力放射照度で,染料f-HEGシステムの光学限界容量が強化されることが分かった。銀ナノ粒子及びf-HEGの間の事前の電荷移動は,染料f-HEG錯体生成の強度を減少した。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： グラファイト ,  縮退四波混合 ,  放射照度 ,  *染料 ,  *炭素材 ,  *非線形光学 ,  パラメータ ,  錯体生成 ,  吸収スペクトル ,  基底状態 ,  電荷移動 ,  ナノ粒子 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： 銀ナノ粒子 ,  膨張黒鉛

分類 (1件)： 非線形光学  (BD05000T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 染料 ,  非線形光学 ,  パラメータ ,  錯体生成