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J-GLOBAL ID:201502251438686390   整理番号:15A0466418

異なる結晶相を示すビスマス酸化膜の光電子特性

Opto-electronic properties of bismuth oxide films presenting different crystallographic phases
著者 (13件):
資料名:
巻: 578  ページ: 103-112  発行年: 2015年03月02日 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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高周波反応性マグネトロンスパッタリングにより堆積したビスマス酸化物薄膜の光学的,電気的,及び構造的特性を調べた。X線回折及びラマン分光法により証明される様な異なる結晶相を有する膜をもたらす酸素富化プラズマ中において,異なる電力及び基板温度の下で,Si及びガラス基板上にBi2O3薄膜を成長した。分光エリプソメトリー及び光透過スペクトルを用いて,膜の光学特性を測定した。膜の光学的分散関数(n,k)をパラメータ化するために,Tauc-Lorentz分散モデルを使用した。異なる方法により,光学バンドギャップを評価し,その結果を薄膜の電気抵抗率の熱変動と比較した。著者等は,屈折率,消衰係数,及び光学ギャップが,堆積条件及び結晶相に強く依存することを見出し,蛍石欠陥立方晶δ-Bi2O3相は,最低光学ギャップ及び低い抵抗率を有することを示した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
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酸化物薄膜  ,  その他の無機化合物の電気伝導  ,  光物性一般 
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