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J-GLOBAL ID：201502251709422989   整理番号：15A0734502

階層的な微細構造の変化およびクリープ中の重大障害ひずみ下でのポリプロピレンの分子機構

Hierarchical microstructure changes and the molecular mechanism of polypropylene under a critical failure strain during creep

著者 (9件)： JIA Chenfei (Coll. of Polymer Sci. and Engineering, State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu ...) ,  ZHANG Qiongwen (Coll. of Polymer Sci. and Engineering, State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu ...) ,  LIAO Xia (Coll. of Polymer Sci. and Engineering, State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu ...) ,  ZHU Jingjun (Key Lab. of Radiation Physics and Technol. of Ministry of Education, Inst. of Nuclear Sci. and Technol., Sichuan ...) ,  WU Lingyun (Coll. of Polymer Sci. and Engineering, State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu ...) ,  NI Kai (Coll. of Polymer Sci. and Engineering, State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu ...) ,  YANG Qi (Coll. of Polymer Sci. and Engineering, State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu ...) ,  AN Zhu (Key Lab. of Radiation Physics and Technol. of Ministry of Education, Inst. of Nuclear Sci. and Technol., Sichuan ...) ,  LI Guangxian (Coll. of Polymer Sci. and Engineering, State Key Lab. of Polymer Materials Engineering, Sichuan Univ., Chengdu ...)
資料名： Polymer  (Polymer)
巻： 67  ページ： 92-100  発行年： 2015年06月12日 
JST資料番号： D0472B  ISSN： 0032-3861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： クリープ中のポリプロピレンの階層的微細構造進化を,示差走査熱量測定(DSC),走査型電子顕微鏡(SEM),二次元小角X線散乱(2D-SAXS),二次元広角X線回折(2D-WAXD)および陽電子消滅寿命分光法(PALS)などの種々の方法を介して調べた。結果はマイクロスケールの球晶,ナノスケールラメラ,結晶性ブロック,原子スケール自由体積変化,およびクリープ中のポリプロピレンの変形間の相関を明らかにした。間隔の増加だけでなく原子スケール自由体積の拡大や合併と同様に,ナノスケールのラメラ長を伴うクリープ方向に沿ってマイクロスケール球晶の伸び率は,εで17%以下であることを観察した。ストレス-誘発結晶性ブロックの分解-再結晶工程で形成した,クリープ方向に沿って優先的に配向した高分子鎖を有する不完全な線維状微結晶は,εが17%と55%の間にあることを,SEMおよび2D-SAXSは結果によって証明した。ポリプロピレン鎖の更なる配向は配向および結晶化の高い程度につながった。クリープ中のポリプロピレンの分子変形機構は三段階が含まれ,自由体積の拡大と合併に伴った結晶性ブロックの内部膜の滑りは,小さなひずみ(ε≦17%)で活性化した。ストレス誘発結晶性ブロックの分解-再結晶工程だけでなく,再配列および鎖の配向は,媒体の歪み(17%<ε≦55%)で進行したのに対し,最後には配向誘起結晶化がより大きな歪(ε>55%)で発生した。Copyright 2016 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *微細構造 ,  *クリープ ,  *ポリプロピレン ,  球晶 ,  ラメラ ,  自由体積 ,  再結晶 ,  高分子鎖 ,  微結晶 ,  結晶化 ,  活性化
準シソーラス用語： 分子機構 ,  ナノスケール ,  マイクロスケール ,  原子スケール ,  変形機構

分類 (1件)： ポリオレフィン  (YH07090L)

タイトルに関連する用語 (7件)： 階層 ,  微細構造 ,  クリープ ,  障害 ,  ひずみ ,  ポリプロピレン ,  分子機構