文献

J-GLOBAL ID：201502253599572508   整理番号：15A0169375

化学修飾熱可塑性ナノスリット及びナノチャネルにおける表面電荷,電気浸透流及びDNA伸張

Surface charge, electroosmotic flow and DNA extension in chemically modified thermoplastic nanoslits and nanochannels

著者 (11件)： UBA Franklin I. (UNC-Chapel Hill, NC, USA) ,  UBA Franklin I. (Ulsan National Inst. of Sci. and Technol., KOR) ,  PULLAGURLA Swathi R. (Louisiana State Univ., LA, USA) ,  SIRASUNTHORN Nichanun (Mahidol Univ., Bangkok, THA) ,  WU Jiahao (Louisiana State Univ., LA, USA) ,  PARK Sunggook (Louisiana State Univ., LA, USA) ,  CHANTIWAS Rattikan (Mahidol Univ., Bangkok, THA) ,  CHO Yoon-Kyoung (Ulsan National Inst. of Sci. and Technol., KOR) ,  SHIN Heungjoo (Ulsan National Inst. of Sci. and Technol., KOR) ,  SOPER Steven A. (UNC-Chapel Hill, NC, USA) ,  SOPER Steven A. (Ulsan National Inst. of Sci. and Technol., KOR)
資料名： Analyst  (Analyst)
巻： 140  号： 1  ページ： 113-126  発行年： 2015年01月07日 
JST資料番号： A0392A  ISSN： 0003-2654  CODEN： ANALAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子間力顕微鏡,X線光電子分光法及びATR-FTIRを適用し,化学修飾熱可塑性ナノスリット及びナノチャネルにおける表面電荷,電気浸透流(EOF)及びDNA伸張を解析した。ポリ(メタクリル酸メチル)(PMMA)に混合スケール流体ネットワークを調製し,酸素プラズマで表面閉じ込めカルボン酸を生成させた後,エチレンジアミン(EDA)によってカルボキシル化表面をアミノ化した。上記デバイスの測定表面電荷密度及びゼータ電位はガラスよりも低く,採用した表面改質に依存することが分かった。

シソーラス用語： X線光電子分光法 ,  ATR分光法 ,  *FTIR分光法 ,  原子間力顕微鏡 ,  *ζ電位 ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  電気浸透 ,  浸透流 ,  チャネル ,  表面電荷 ,  表面改質 ,  アミノ化 ,  *DNA【核酸】 ,  化学修飾 ,  塑性材料 ,  ナノ構造 ,  光学スリット ,  キャラクタリゼーション ,  *流体素子 ,  マイクロ流体デバイス ,  マイクロチャネル ,  アルキレンジアミン ,  ジアミン ,  第一アミン ,  カルボキシ化
準シソーラス用語： カルボキシル化 ,  AFM【顕微鏡】 ,  ATR-FTIR分光法 ,  XPS ,  ナノスリット ,  ナノチャネル ,  電気浸透流

分類 (3件)： 分析機器  (CC02020S) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  核酸一般  (EB04010U)

物質索引 (1件)： エチレンジアミン

タイトルに関連する用語 (8件)： 化学修飾 ,  熱可塑性 ,  ナノスリット ,  ナノチャネル ,  表面電荷 ,  電気浸透流 ,  DNA ,  伸張