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J-GLOBAL ID：201502253878533091   整理番号：15A0429238

C-N結合の光化学的形成と開裂

Photochemical Formation and Cleavage of C-N Bond

著者 (4件)： WANG Pengfei (Univ. Alabama at Birmingham, Alabama, USA) ,  LU Wenya (Univ. Alabama at Birmingham, Alabama, USA) ,  DEVALANKAR Dattatray (Univ. Alabama at Birmingham, Alabama, USA) ,  DING Zhenying (Univ. Alabama at Birmingham, Alabama, USA)
資料名： Organic Letters  (Organic Letters)
巻： 17  号： 1  ページ： 170-172  発行年： 2015年01月02日 
JST資料番号： W1171A  ISSN： 1523-7060  CODEN： ORLEF7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 3-N-ビス(プロピルカルボニルオキシナトリウム)アミノトリチルアルコールを水中でn-ブチルアミンの存在下に紫外線照射するとベンジリックC-O結合の開裂とC-N結合の形成が生じ,最大81%収率で対応するトリチルブチルアミンが生成した。このトリチルブチルアミンは同一の光照射条件で安定であったが,HCl添加によりアミノ基をプロトン化状態にすると同一光照射下でC-N結合が開裂して,n-ブチルアミンと対応トリチルアルコールに戻った。アミンとしてグリシンナトリウム及びAc-L-リシン-NHMeを用いても同様の反応が生じた。

シソーラス用語： *開裂反応 ,  *光化学反応 ,  *C-N結合 ,  C-O結合 ,  可逆反応 ,  紫外線照射 ,  プロトン化 ,  アンモニウムイオン ,  酸性 ,  安定性 ,  水溶液 ,  置換反応 ,  脂肪族アミン ,  第一アミン
準シソーラス用語： *光開裂

分類 (2件)： 光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A) ,  芳香族単環アミン・イミン・第四アンモニウム・インモニウム  (CF05050D)

物質索引 (7件)： n-ブチルアミン ,  グリシンナトリウム ,  4,4′-[[3-(ヒドロキシジフェニルメチル)フェニル]イミノ]ビス(酪酸ナトリウム) ,  N^α-アセチル-N-メチル-L-リシンアミド ,  4,4′-[[3-(ブチルアミノジフェニルメチル)フェニル]イミノ]ビス(酪酸ナトリウム) ,  4,4′-[[3-[[2-オキソ-2-(ソジオオキシ)エチルアミノ]ジフェニルメチル]フェニル]イミノ]ビス(酪酸ナトリウム) ,  4,4′-[[3-[[[(S)-5-(アセチルアミノ)-5-(メチルカルバモイル)ペンチル]アミノ]ジフェニルメチル]フェニル]イミノ]ビス(酪酸ナトリウム)

タイトルに関連する用語 (3件)： C-N結合 ,  光化学 ,  開裂