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J-GLOBAL ID：201502254780084961   整理番号：15A0392349

Hf-Si系の電子構造と機械的性質: 第一原理計算

Mechanical properties and electronic structures of the Hf-Si system: First-principles calculations

著者 (4件)： LIU Qi-Jun (Southwest Jiaotong Univ., Chengdu, CHN) ,  LIU Qi-Jun (Southwest Jiaotong Univ., Sichuan, CHN) ,  TIAN Hao (Northwestern Polytechnical Univ., Shaanxi, CHN) ,  LIU Zheng-Tang (Northwestern Polytechnical Univ., Shaanxi, CHN)
資料名： Solid State Communications  (Solid State Communications)
巻： 205  ページ： 39-45  発行年： 2015年02月23日 
JST資料番号： H0499A  ISSN： 0038-1098  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *電子構造 ,  ハフニウム化合物 ,  *ケイ化物 ,  弾性 ,  脆性 ,  延性 ,  *密度汎関数法 ,  結晶構造 ,  バンド構造 ,  状態密度
準シソーラス用語： 電子バンド構造

分類 (1件)： 絶縁体結晶の電子構造  (BM02070Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： HF ,  Si ,  電子構造 ,  機械的性質 ,  第一原理計算