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J-GLOBAL ID:201502256073336620   整理番号:15A0445146

デュアルゲートMoS2/WSe2 van der Waalsトンネルダイオード及びトランジスタ

Dual-Gated MoS2/WSe2 van der Waals Tunnel Diodes and Transistors
著者 (17件):
資料名:
巻:号:ページ: 2071-2079  発行年: 2015年02月 
JST資料番号: W2326A  ISSN: 1936-0851  CODEN: ANCAC3  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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二次元層状半導体は,その原子レベルで平坦な厚さによる均一なバンド端急峻さのためにバンド間トンネリングデバイスのための有望な材料プラットフォームを提供する。ここでは,系統的なデュアルゲートデバイスアーキテクチャを用いることによって,縦型MoS2/WSe2ヘテロ構造においてバンド間トンネル電流を実証した。印加ゲート電圧を調整し,デバイスを多用途にすることによって,同一デバイスを逆方向ダイオード,あるいは,正方向整流ダイオードのEsakiダイオードとして動作させることができる。特に,MoS2/WSe2縦型界面におけるバンドオフセット調整に関して~80%の高いゲート結合効率を実証する。理論シミュレーションから,ダイオード動作モードを2D層の弱い静電スクリーニングに基づいて2つのゲートによって容易に変調できることを確認する。実験と理論の両方から,縦方向に沿った電荷空乏領域の欠如から生じる正方向バイアス動作モードにおけるvan der Waals(vdW)縦方向ヘテロ構造における非弾性輸送の重要性が示される。2D間トンネリングの実証は,半導体層状材料における重要な発見である。今回の研究は,将来の低電力エレクトロニクスのトンネルトランジスタにおいてvdW半導体ヘテロ構造を用いる可能性を確立する。
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分類 (2件):
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ダイオード  ,  トランジスタ 
タイトルに関連する用語 (5件):
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