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J-GLOBAL ID：201502257078476486   整理番号：15A0512614

D-π-A型スルホニウム系アルコキシスチルベン光酸発生剤の励起状態動力学

Excited-State Dynamics of a D-π-A Type Sulfonium-Based Alkoxystilbene Photoacid Generator

著者 (8件)： DE WAELE Vincent (Univ. de Lille1 - Sci. et Technol., Villeneuve d’Ascq Cedex, FRA) ,  HAMM Maximilian (Univ. de Lille1 - Sci. et Technol., Villeneuve d’Ascq Cedex, FRA) ,  VERGOTE Thomas (Univ. de Haute-Alsace, Mulhouse, FRA) ,  CHAUMEIL Helene (Univ. de Haute-Alsace, Mulhouse, FRA) ,  JIN Ming (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  MALVAL Jean-Pierre (Univ. de Haute-Alsace, Mulhouse, FRA) ,  BALDECK Patrice (Univ. Joseph Fourier, Saint Martin d’Heres, FRA) ,  POIZAT Olivier (Univ. de Lille1 - Sci. et Technol., Villeneuve d’Ascq Cedex, FRA)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 27  号： 5  ページ： 1684-1691  発行年： 2015年03月10日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： D-π-A型スルホニウム系アルコキシスチルベン光酸発生剤の励起状態緩和動力学を,メチル(p-シアノベンジル)スルホニウムにより4′位置で置換した4-エトキシスチルベン誘導体のアセトニトリル溶液中で,フェムト秒過渡吸収とナノ秒レーザフラッシュ光分解により調べた。スルホニウム酸発生剤の光誘起陽子発生に関係する逐次反応ステップを,初期段階(フェムト秒ドメイン)から最終の化学過程(マイクロ秒ドメイン)まで速度論的,スペクトル的に分解した。全体で4個のステップの反応スキームを見いだした。陽子発生効率を制限する2つの主要な脱活性経路を検出し,定量化した。

シソーラス用語： *光酸発生剤 ,  光開始剤 ,  共役 ,  過渡吸収スペクトル ,  光分解 ,  計測 ,  フェムト秒 ,  ナノ秒 ,  カチオン重合 ,  秒 ,  *励起状態
準シソーラス用語： π共役 ,  *スルホニウム化合物 ,  *ドナー・アクセプター系 ,  マイクロ秒 ,  レーザフラッシュ法

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  単独重合  (CG04020S)

物質索引 (1件)： メチル(4-シアノベンジル)(4′-エトキシスチルベン-4-イル)スルホニウム

タイトルに関連する用語 (3件)： スルホニウム ,  光酸発生剤 ,  励起状態動力学