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J-GLOBAL ID:201502261818448403   整理番号:15A0486734

ポリ(イミドシロキサン)およびポリイミドに基づくエレクトロウェッティングディスプレイのスクリーン印刷作製

Screen-printing fabrication of electrowetting displays based on poly(imide siloxane) and polyimide
著者 (10件):
資料名:
巻: 37  ページ: 79-85  発行年: 2015年04月 
JST資料番号: C0042B  ISSN: 0141-9382  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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ポリイミドベースの材料を用いる大面積のエレクトロウェッティングディスプレイ(EWD)デバイスのためのスクリーン印刷作製プロセスを報告する。疎水性の絶縁層としてポリ(イミドシロキサン),またグリッド材料として比較的疎水性のポリイミドを選択した。通常の方法で作製された疎水性絶縁層としてポリ(イミドシロキサン)を用いるEWDデバイスは,単一小滴およびデバイスレベルの両方で良好な可逆エレクトロウェッティング性能を示し,そのことはEWDにおける応用可能性を示した。ポリイミドベースの材料(疎水性ポリ(イミドシロキサン)および疎水性ポリイミド)の両立性は,2つの層間の良好な接着性および印刷作製の可能性を保証する。最後に,疎水性グリッドは,疎水層の上に直接のスクリーン印刷により作るのに成功した。得られたEWDデバイスは,良好なスイッチ性能および比較的高い歩留りを示した。通常の方法と比較して,ポリイミドベースの材料および方法は,単純,安価および素早い作製をもたらし,とくに大面積ディスプレイ作製に適している。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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