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J-GLOBAL ID：201502262602052412   整理番号：15A0492341

ポリピロール上のSILAR沈着硫化銅の改善された光酸化安定性

The improved photooxidation stability of the SILAR deposited copper sulfide on polypyrrole

著者 (4件)： JANACKOVIC Marija (Fac. of Technol. and Metallurgy, Univ. of Belgrade, Karnegijeva 4, 11020 Belgrade, Serbia) ,  GVOZDENOVIC Milica (Fac. of Technol. and Metallurgy, Univ. of Belgrade, Karnegijeva 4, 11020 Belgrade, Serbia) ,  JUGOVIC Branimir (Inst. of Technical Sciences of the Serbian Acad. of Sciences and Arts, Knez Mihailova 35/IV, 11000 Belgrade, Serbia) ,  GRGUR Branimir (Fac. of Technol. and Metallurgy, Univ. of Belgrade, Karnegijeva 4, 11020 Belgrade, Serbia)
資料名： Synthetic Metals  (Synthetic Metals)
巻： 203  ページ： 37-43  発行年： 2015年05月 
JST資料番号： C0123B  ISSN： 0379-6779  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 連続的イオン吸着・反応(SILAR)プロセスにより,硫化銅を電気化学的に調製したポリピロール上に沈着させた。ポリピロール,硫化銅,および硫化銅変性ポリピロールの,硫黄ベースの溶液中でのカソードおよびアノードとしての電気化学的挙動を調べた。光酸化安定性と硫化銅変性ポリピロールの活性の改善が達成された。この挙動はCu_2-XS導電帯からの電子とPPyのLUMOのホールとの再結合で説明できる。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ポリピロール ,  *硫化銅 ,  沈着 ,  *光酸化 ,  安定性 ,  *電気化学的挙動 ,  再結合 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  モルフォロジー ,  *バンドギャップ ,  光電流 ,  電荷移動 ,  カソード ,  アノード ,  ウレア化合物 ,  有機硫黄化合物

分類 (4件)： 電気化学一般  (CB07010N) ,  光伝導,光起電力  (BM03050J) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  ピロール  (CF07076L)

物質索引 (1件)： チオウレア

タイトルに関連する用語 (4件)： ポリピロール ,  沈着 ,  硫化銅 ,  酸化安定性