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J-GLOBAL ID：201502262772140324   整理番号：15A0568940

近接場光学

著者 (1件)： 大川秀樹 (エム・テクニック)
資料名： 光学  (Japanese Journal of Optics)
巻： 44  号： 4  ページ： 146-148  発行年： 2015年04月10日 
JST資料番号： G0125B  ISSN： 0389-6625  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 2015年は国際光年として記念すべき年となり,フレネルの光の回折の研究からは200年にあたる。1928年のSyngeの報告は,近接場光学の嚆矢となっている。2014年も近接場光学において多くの研究報告がなされた。限られた誌面の中であるが,以下にトピックスを追ってみたい。(著者抄録)

シソーラス用語： *光学 ,  エバネセント波 ,  *近接場 ,  Fresnel回折 ,  光回折 ,  光伝搬 ,  導波モード ,  固体素子 ,  表面プラズモン ,  人工材料 ,  機能材料 ,  光学材料 ,  周期構造 ,  顕微鏡
準シソーラス用語： メタマテリアル ,  *近接場光学 ,  発光素子

分類 (1件)： その他の光学  (BD03100O)

引用文献 (41件)：

• 清水亮他:春季応物講演会(2014)17a-E13-2.
• 塚田哲朗他:春季応物講演会(2014)17a-E13-3
• 大紘太郎他:春季応物講演会(2014)17a-E13-9.
• 泉山隆志他:春季応物講演会(2014)17a-F12-2.
• 元垣内敦司他:春季応物講演会(2014)17a-F12-5.

タイトルに関連する用語 (1件)： 近接場光学