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J-GLOBAL ID：201502263777590260   整理番号：15A0392554

酸性溶液での接触グロー放電プラズマによるヒ素の速い酸化と不溶化

Rapid oxidation and immobilization of arsenic by contact glow discharge plasma in acidic solution

著者 (7件)： JIANG Bo (State Key Lab. of Heavy Oil Processing, China Univ. of Petroleum, Qingdao 266580, Shandong, CHN) ,  HU Ping (State Key Lab. of Heavy Oil Processing, China Univ. of Petroleum, Qingdao 266580, Shandong, CHN) ,  ZHENG Xing (Bei Jing Sinen En-Tech Co., Ltd, Beijing 100080, CHN) ,  ZHENG Jingtang (State Key Lab. of Heavy Oil Processing, China Univ. of Petroleum, Qingdao 266580, Shandong, CHN) ,  TAN Minghui (State Key Lab. of Heavy Oil Processing, China Univ. of Petroleum, Qingdao 266580, Shandong, CHN) ,  WU Mingbo (State Key Lab. of Heavy Oil Processing, China Univ. of Petroleum, Qingdao 266580, Shandong, CHN) ,  XUE Qinzhong (State Key Lab. of Heavy Oil Processing, China Univ. of Petroleum, Qingdao 266580, Shandong, CHN)
資料名： Chemosphere  (Chemosphere)
巻： 125  ページ： 220-226  発行年： 2015年04月 
JST資料番号： E0843A  ISSN： 0045-6535  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ヒ素は水生生態系で重要な汚染物質で,従ってヒ素含有廃水の浄化は重要な環境問題である。この研究は,接触グロー放電プロセス(CGDP)を用いてAs(III)の酸化とヒ素の不溶化が同時に達成できることを初めて報告した。細い陽極線と高いエネルギーインプットによるCGDPが高いAs(V)生産効率に対して有利であった。CGDPシステムでのFe(II)の添加は追加的な^・OHとFe(IV)種の生成によってAs(III)の酸化速度を大きく高め,それに伴ってヒ素が一つのプロセスで同時に固定された。4.0~6.0の溶液pH範囲と250~1000μMのFe(II)濃度がヒ素の不溶化に有利であった。有機物(すなわち,シュウ酸,エタノールとフェノール)の存在は水溶液での^・OHの捕捉あるいはFe(III)錯体の生成によってヒ素の不溶化を阻害した。これらの結果に基づいて,生成したAs(V) イオンのFe(III)イオンとの迅速な共沈,あるいは非晶質第二鉄ヒ酸塩含有オキシ水酸化第二鉄の生成によるオキシ水酸化第二鉄への吸着よる機構を提案した。このCGDP-Fentonシステムはヒ素含有廃水の浄化に関係する人工システムとして重要である。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 廃水処理 ,  グロー放電 ,  *酸化 ,  溶液 ,  プラズマ ,  *ヒ素 ,  *化学的水処理 ,  重金属汚染 ,  *プラズマ化学反応 ,  鉄 ,  添加物効果 ,  不溶化
準シソーラス用語： 酸性溶液 ,  放電プラズマ ,  *三価ヒ素 ,  *プラズマ酸化 ,  第一鉄

分類 (2件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W) ,  重金属とその化合物一般  (SB05021R)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸性溶液 ,  グロー放電プラズマ ,  ヒ素 ,  酸化 ,  不溶化