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J-GLOBAL ID:201502264408285638   整理番号:15A0550025

独特のデカシルセスキオキサンから集合化させた剛性鋳型の表面へのポリマー表面の結合によるシルセスキオキサンをベースにするナノしわ構造体の作成

Fabrication of silsesquioxane-based nano-wrinkled structures by coupling the polymeric surface onto rigid templates assembled from unique deca-silsesquioxane
著者 (8件):
資料名:
巻:号: 12  ページ: 2897-2908  発行年: 2015年03月28日 
JST資料番号: W2383A  ISSN: 2050-7526  CODEN: JMCCCX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本研究で,シルセスキオキサンの剛性鋳型へのポリマー表面の結合による二重層ナノしわ構造体の容易な作成法を報告した。バルク層の構築のためにアザ-Michael付加をオクタキス(アミノフェニル)シルセスキオキサン(OAPS)とデカキス(メタクリルオキシプロピル)シルセスキオキサン(CMSQ-T10)を利用して適用した。その後,トップ層をオクタキス(メタクリルオキシプロピル)シルセスキオキサン(CMSQ-T8)とアクリル酸ヘキサフルオロブチル(HFBA)のフリーラジカル重合によって作成した。明確に定義されたナノ島構造体が,シルセスキオキサンの2種の籠の剛性層中での反応誘導集合化によって達成され,これがin situ鋳型,または足場としてトップ層の重合に役立つ。その結果として,トップ層とバルク層間の反応の異なる容積収縮の不整合によって引き起こされるバルク層の鋳型の役割と圧縮応力が,二重層ナノしわ構造体をもたらし,これが,電界放射型走査型電子顕微鏡(FE-SEM)と原子間力顕微鏡(AFM)を利用して観察される。また,二重層の原料の組成の調節によって,制御可能なナノしわ構造体が得られる。もたらされるナノしわの表面の最小反射率が,3.51±0.03%に減少する(最大透過率:98.51±0.02%)。また,もたらされる表面は,明瞭な疎水性とすぐれた熱安定性を示し,光学素子,太陽電池,及び種々のオプトエレクトロニクス素子中の反射防止面としてのその潜在的用途を示唆する。Copyright 2015 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST
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分類 (2件):
分類
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有機けい素化合物  ,  無機重合体 
物質索引 (1件):
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