文献

J-GLOBAL ID：201502264824754515   整理番号：15A0564703

新規で単純なゾル-ゲル前駆体溶液から低アニーリング温度で調製したZnO薄膜

ZnO thin films prepared at low annealing temperatures, from a novel, simple sol-gel precursor solution

著者 (3件)： LOPEZ-MENA E. (Unidad Queretaro, Centro de Investigacion y de Estudios Avanzados del Instituto Politecnico Nacional, Apartado ...) ,  JIMENEZ-SANDOVAL S. (Unidad Queretaro, Centro de Investigacion y de Estudios Avanzados del Instituto Politecnico Nacional, Apartado ...) ,  JIMENEZ-SANDOVAL O. (Unidad Queretaro, Centro de Investigacion y de Estudios Avanzados del Instituto Politecnico Nacional, Apartado ...)
資料名： Journal of Sol-Gel Science and Technology  (Journal of Sol-Gel Science and Technology)
巻： 74  号： 2  ページ： 419-424  発行年： 2015年05月 
JST資料番号： W0812A  ISSN： 0928-0707  CODEN： JSGTEC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化亜鉛薄膜は主に光学および半導体特性に起因して潜在的な広い応用領域を示す。ZnO膜はゾル-ゲル法により調製される。しかしながら,それらの調製はかなり面倒で,前駆体溶液の組成は比較的複雑である。本研究では酢酸亜鉛とメチルアルコール系の非常に単純な前駆体溶液から新規なゾル-ゲル法によるZnO薄膜の調製を提示した。透明で十分に接着した膜が100~500°Cのアニーリング温度範囲でスライドガラス基板上に得られた。この方法の非常に注目すべき特徴は多結晶ZnO薄膜が100°Cの低いアニーリング温度で得られることである。この膜は可視および近赤外スペクトル範囲内(80~90%)で透明であった。これはまたマイクロラマン分光法およびSEMにより特徴付けられ,その厚さはプロフィルメータ測定により評価した。Copyright 2015 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,  *半導体薄膜 ,  *ゾル-ゲル法 ,  亜鉛化合物 ,  カルボン酸塩 ,  脂肪族カルボン酸 ,  脂肪族アルコール ,  基板 ,  *ガラス ,  ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  *浸漬塗装 ,  *焼なまし ,  *透明材料 ,  多結晶 ,  前駆体
準シソーラス用語： アニール ,  シリコンウエハ ,  スライドガラス ,  浸漬コーティング ,  酢酸塩

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (2件)： メタノール ,  酢酸亜鉛

タイトルに関連する用語 (6件)： ゾル-ゲル ,  前駆体 ,  溶液 ,  アニーリング温度 ,  調製 ,  ZnO薄膜